超薄Al膜和AlN薄膜的光学性质及相关问题的研究
| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-10页 |
| 1 绪论 | 第10-20页 |
| ·超薄铝膜的研究现状 | 第10-13页 |
| ·铝材料的性质 | 第10页 |
| ·铝薄膜的性质 | 第10-11页 |
| ·超薄铝薄膜材料的制备方法 | 第11-12页 |
| ·铝薄膜的研究概况和发展方向 | 第12-13页 |
| ·氮化铝薄膜的研究现状 | 第13-18页 |
| ·氮化铝(AlN)晶体的结构与能带结构 | 第13-14页 |
| ·氮化铝的性能 | 第14-15页 |
| ·氮化铝薄膜的制备方法 | 第15-16页 |
| ·氮化铝薄膜的应用前景和发展方向 | 第16-18页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第18-20页 |
| 2 实验方法和测试原理 | 第20-30页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第20-23页 |
| ·直流磁控溅射装置及其原理 | 第20-21页 |
| ·射频磁控溅射装置及其原理 | 第21-22页 |
| ·反应溅射 | 第22-23页 |
| ·透射光谱分析方法 | 第23-24页 |
| ·X 射线分析方法 | 第24-25页 |
| ·表面平整度分析AFM | 第25-26页 |
| ·热学性质分析 | 第26-30页 |
| ·纵向热导率测试方法 | 第26-28页 |
| ·横向热导率测试方法 | 第28-30页 |
| 3 超薄铝膜的制备与光学性质分析 | 第30-38页 |
| ·超薄铝膜的制备 | 第30页 |
| ·实验仪器 | 第30页 |
| ·衬底的清洗 | 第30页 |
| ·实验过程 | 第30页 |
| ·制备参数对超薄铝膜透射光谱的影响 | 第30-35页 |
| ·工作压强 | 第32-33页 |
| ·溅射时间 | 第33页 |
| ·基片温度 | 第33-34页 |
| ·靶距 | 第34-35页 |
| ·退火处理对铝膜透光性能的影响 | 第35页 |
| ·超薄铝膜表面平整度分析 | 第35-37页 |
| ·本章小结 | 第37-38页 |
| 4 氮化铝薄膜的制备与分析 | 第38-53页 |
| ·ALN 薄膜的制备 | 第38页 |
| ·氮化铝薄膜成分分析 | 第38-42页 |
| ·氮化铝薄膜形貌分析 | 第42-44页 |
| ·氮化铝薄膜的结构分析 | 第44-45页 |
| ·制备参数对氮化铝薄膜透光性能的影响 | 第45-50页 |
| ·氮分压 | 第46-47页 |
| ·工作压强 | 第47-48页 |
| ·靶距 | 第48页 |
| ·溅射时间 | 第48页 |
| ·基片温度 | 第48-49页 |
| ·综合分析 | 第49-50页 |
| ·退火处理对氮化铝薄膜光学性质的影响 | 第50-51页 |
| ·氮化铝薄膜热学性质分析 | 第51页 |
| ·本章小结 | 第51-53页 |
| 5 导热涂层对LED 系统散热性能分析 | 第53-64页 |
| ·引言 | 第53-54页 |
| ·LED 热量分析 | 第54-57页 |
| ·不同发光颜色LED 灯的升温曲线 | 第56页 |
| ·LED 管封装数量不同的LED | 第56-57页 |
| ·导热材料对LED 灯升温的影响 | 第57-62页 |
| ·加入硅脂涂层变化图 | 第57-59页 |
| ·加入硅胶涂层变化图 | 第59-61页 |
| ·结果分析 | 第61-62页 |
| ·ALN 薄膜在LED 散热系统中的应用前景 | 第62-63页 |
| ·本章小结 | 第63-64页 |
| 6 结论与展望 | 第64-66页 |
| ·结论 | 第64-65页 |
| ·展望 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 附录 | 第70-83页 |
| 1 作者在攻读硕士学位期间发表的论文 | 第70-71页 |
| 2 作者在攻读硕士学位期间参与的项目情况 | 第71-72页 |
| 3 LED 升温曲线具体数据 | 第72-83页 |
| 独创性声明 | 第83页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第83页 |
