| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-22页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·多元氮化物薄膜发展概况 | 第9-13页 |
| ·添加金属元素强化的多元氮化物薄膜 | 第9-11页 |
| ·添加非金属元素强化的多元氮化物薄膜 | 第11-13页 |
| ·同时添加金属元素和非金属元素强化的氮化物薄膜 | 第13页 |
| ·TiAlSiN多元膜及ZrAlN多元膜的研究进展 | 第13-16页 |
| ·Si在TiAlSiN薄膜中的作用 | 第14-15页 |
| ·Si含量对薄膜结构的影响 | 第15页 |
| ·Si对薄膜抗氧化性能的影响 | 第15-16页 |
| ·Si对薄膜热稳定性的影响 | 第16页 |
| ·薄膜制备技术及特点 | 第16-20页 |
| ·化学气相沉积(CVD) | 第16-17页 |
| ·物理气相沉积(PVD) | 第17-20页 |
| ·本课题研究目的与意义 | 第20-21页 |
| ·本课题研究的内容 | 第21-22页 |
| 第二章 实验方法 | 第22-33页 |
| ·实验方案的确定 | 第22-27页 |
| ·实验方案设计 | 第22-23页 |
| ·薄膜制备方法的选择 | 第23页 |
| ·基体材料的选取及预处理 | 第23-24页 |
| ·实验参数的选取 | 第24-25页 |
| ·靶材的选取 | 第25-26页 |
| ·镀膜工艺流程 | 第26-27页 |
| ·实验设备 | 第27-29页 |
| ·Bulat-6多弧离子镀膜机的技术特性 | 第27-29页 |
| ·离子束在等离子镀膜中的作用 | 第29-30页 |
| ·离子束对基片表面轰击的效应 | 第29-30页 |
| ·离子束轰击对基片和镀层界面的效应 | 第30页 |
| ·离子束轰击在薄膜生长中的效应 | 第30页 |
| ·显微结构分析 | 第30-31页 |
| ·形貌观察及成份分析 | 第30页 |
| ·相组成及结构分析 | 第30-31页 |
| ·性能测试 | 第31-33页 |
| ·硬度测量 | 第31页 |
| ·摩擦磨损实验 | 第31页 |
| ·高温氧化实验 | 第31-33页 |
| 第三章 AlSi合金靶制备TiAlSiN薄膜及分析 | 第33-56页 |
| ·实验方法 | 第33页 |
| ·AlSi合金靶材表面烧蚀 | 第33-35页 |
| ·AlSi合金靶组织分析 | 第33-34页 |
| ·AlSi合金靶工作后表面形貌分析 | 第34-35页 |
| ·AlSi合金靶材与TiAlSiN薄膜的成份偏析 | 第35-36页 |
| ·微观结构 | 第36-39页 |
| ·真空电弧沉积TiAlSiN薄膜的形貌 | 第36-38页 |
| ·真空电弧沉积TiAlSiN薄膜的XRD分析 | 第38-39页 |
| ·真空电弧沉积TiAlSiN薄膜显微硬度 | 第39-40页 |
| ·真空电弧沉积TiAlSiN薄膜的磨损分析 | 第40-44页 |
| ·真空电弧沉积TiAlSiN薄膜的抗氧化性能分析 | 第44-45页 |
| ·离子束辅助沉积TiAlSiN薄膜组织和性能 | 第45-54页 |
| ·离子束辅助沉积TiAlSiN薄膜的形貌 | 第46-47页 |
| ·离子束辅助沉积TiAlSiN薄膜的XRD分析 | 第47-48页 |
| ·离子束辅助沉积TiAlSiN薄膜的显微硬度 | 第48-49页 |
| ·离子束辅助沉积TiAlSiN薄膜的磨损分析 | 第49-53页 |
| ·离子束辅助沉积TiAlSiN薄膜抗氧化性能分析 | 第53-54页 |
| ·本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 Al含量对(Zr_(1-x)Al_x)N薄膜结构和性能的影响 | 第56-68页 |
| ·实验方法 | 第56页 |
| ·薄膜成分 | 第56-57页 |
| ·(Zr_(1-x)Al_x)N表面形貌分析 | 第57-59页 |
| ·(Zr_(1-x)Al_x)N薄膜相结构分析 | 第59-60页 |
| ·Al含量对(Zr_(1-x)Al_x)N薄膜硬度的影响 | 第60-61页 |
| ·Al含量对(Zr_(1-x)Al_x)N薄膜磨损性能影响 | 第61-65页 |
| ·Al含量对(Zr_(1-x)Al_x)N薄膜抗氧化性能的影响 | 第65-66页 |
| ·本章小结 | 第66-68页 |
| 全文结论 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-76页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第76-77页 |
| 独创性声明 | 第77-78页 |
| 致谢 | 第78页 |
