锗单晶的化学钝化研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-27页 |
| ·锗的介绍 | 第11-15页 |
| ·锗的基本性质 | 第11-12页 |
| ·锗的应用概况 | 第12-15页 |
| ·锗氧化物的简介 | 第15-19页 |
| ·一氧化锗GeO | 第15-16页 |
| ·二氧化锗GeO_2 | 第16-18页 |
| ·锗氧化物的研究 | 第18-19页 |
| ·锗钝化 | 第19-24页 |
| ·半导体载流子复合机理 | 第19-22页 |
| ·常用的锗表面钝化方法 | 第22-24页 |
| ·课题的意义、创新性、内容 | 第24-27页 |
| ·课题的意义 | 第24页 |
| ·课题的创新性 | 第24-25页 |
| ·课题研究内容 | 第25-27页 |
| 第2章 实验 | 第27-30页 |
| ·实验材料和分析仪器 | 第27-28页 |
| ·实验材料 | 第27页 |
| ·分析仪器 | 第27-28页 |
| ·实验步骤 | 第28-29页 |
| ·结果分析 | 第29页 |
| ·理论模拟与分析 | 第29-30页 |
| 第3章 锗氧化物对锗片表面的钝化研究 | 第30-46页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验参数设定 | 第30-32页 |
| ·实验结果 | 第32-33页 |
| ·分析讨论 | 第33-44页 |
| ·n 型样品的少子寿命变化规律研究 | 第33-41页 |
| ·p 型样品的少子寿命变化规律研究 | 第41-44页 |
| ·本章小结 | 第44-46页 |
| 第4章 氢氟酸、过氧化氢溶液对锗片表面的钝化研究 | 第46-59页 |
| ·引言 | 第46页 |
| ·实验参数设定 | 第46-47页 |
| ·实验结果 | 第47-48页 |
| ·分析讨论 | 第48-57页 |
| ·非混合模式对样品少子寿命的研究 | 第48-50页 |
| ·混合模式实验对样品少子寿命的影响研究 | 第50-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第5章 氧化层模拟与理论分析 | 第59-71页 |
| ·引言 | 第59页 |
| ·电负性理论 | 第59-61页 |
| ·电负性理论简介 | 第59-60页 |
| ·电负性均衡化 | 第60-61页 |
| ·模拟方法 | 第61-62页 |
| ·模拟分析 | 第62-67页 |
| ·单元基团中Ge 3d 结合能的计算 | 第62-64页 |
| ·5 种单元基团的相对含量计算 | 第64-65页 |
| ·总结合能与x 的关系曲线 | 第65-67页 |
| ·模拟与XPS 测试结果结合讨论 | 第67-69页 |
| ·钝化效果的实现分析 | 第69-70页 |
| ·本章小结 | 第70-71页 |
| 第6章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-78页 |
| 致谢 | 第78-79页 |
| 攻读学位期间的研究成果 | 第79页 |
