空间滤波技术提高光刻分辨率的研究及其仿真软件的实现
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 目录 | 第5-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·集成电路发展概述 | 第8-9页 |
| ·集成电路设计技术的发展 | 第9-10页 |
| ·集成电路的制造过程 | 第10-11页 |
| ·超深压微米下集成电路制造工艺的问题 | 第11-13页 |
| ·目前世界上的研究现状 | 第13-14页 |
| ·论文组织安排 | 第14-16页 |
| 第二章 集成电路的光刻制造工艺 | 第16-25页 |
| ·集成电路的制造过程 | 第16-17页 |
| ·光刻工艺简介 | 第17-20页 |
| ·涂胶 | 第17-18页 |
| ·前烘 | 第18-19页 |
| ·对准和曝光 | 第19页 |
| ·显影 | 第19页 |
| ·蚀刻 | 第19-20页 |
| ·光刻成像系统 | 第20-23页 |
| ·光刻机 | 第20-21页 |
| ·照明光源 | 第21页 |
| ·透镜组 | 第21-22页 |
| ·掩模 | 第22页 |
| ·光刻胶 | 第22-23页 |
| ·光刻技术的发展趋势 | 第23-25页 |
| 第三章 光刻分辨率增强技术 | 第25-33页 |
| ·光刻系统的性能评价 | 第25-26页 |
| ·光刻分辨率增强技术 | 第26-31页 |
| ·离轴照明 | 第26-28页 |
| ·光学邻近校正 | 第28-29页 |
| ·移相掩模 | 第29-30页 |
| ·次分辨率辅助图形 | 第30-31页 |
| ·空间滤波技术 | 第31-33页 |
| 第四章 光刻系统建模及仿真工具LITHOLAB | 第33-47页 |
| ·光刻系统建模 | 第33-39页 |
| ·纯光学系统模型 | 第33-37页 |
| ·光刻机系统的参数 | 第33-34页 |
| ·部分相干光源 | 第34-35页 |
| ·Hopkins部分相干成像理论 | 第35-37页 |
| ·光学成像系统的系统函数的实现流程 | 第37页 |
| ·光刻胶阈值模型 | 第37-38页 |
| ·可变偏差蚀刻模型VBM | 第38-39页 |
| ·光刻仿真系统LITHOLAB | 第39-46页 |
| ·Litholab的功能 | 第39-40页 |
| ·Litholab的结构 | 第40-43页 |
| ·计算程序库 | 第40-41页 |
| ·高层模块 | 第41-43页 |
| ·交互脚本语言 | 第43页 |
| ·Litholab的用户界面 | 第43-46页 |
| ·LITHOLAB的光刻建模流程 | 第46-47页 |
| 第五章 光源模型的优化 | 第47-59页 |
| ·光刻模型影响因素分析 | 第47-48页 |
| ·光源模型优化方法 | 第48-49页 |
| ·光源模型的参数优化 | 第49-52页 |
| ·连续分布的光源函数模型 | 第52-59页 |
| ·光源光强的0-1分布形式和平滑分布形式 | 第52-54页 |
| ·光源特征函数的推导 | 第54-56页 |
| ·新光源特征函数模型 | 第56-59页 |
| 第六章 光瞳模型的优化 | 第59-68页 |
| ·透镜像差 | 第59-60页 |
| ·透镜像差的数学表征 | 第60-62页 |
| ·离焦 | 第60-61页 |
| ·初级像差 | 第61-62页 |
| ·泽尔尼克多项式 | 第62页 |
| ·光瞳滤波原理及理论模型 | 第62-64页 |
| ·光瞳函数优化的光刻模型 | 第64-68页 |
| 第七章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 参考文献 | 第70-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 附录 硕士研究生期间发表文章 | 第74页 |
