| 中文摘要 | 第1-5页 |
| 英文摘要 | 第5-10页 |
| 1 前言 | 第10-22页 |
| ·氢气敏感材料的研究意义和现状 | 第10-14页 |
| ·氢气敏感材料的研究意义 | 第10页 |
| ·半导体型氢敏材料 | 第10-12页 |
| ·热电型氢敏材料 | 第12-13页 |
| ·光学型氢敏材料 | 第13-14页 |
| ·钯复合膜的研究意义和现状 | 第14-19页 |
| ·钯复合膜的研究意义 | 第14-15页 |
| ·钯复合膜的制备方法 | 第15页 |
| ·化学镀法制膜的特点 | 第15-17页 |
| ·化学镀法制备钯复合膜的国内外研究进展 | 第17-19页 |
| ·本文的研究目的、思路创新和主要内容 | 第19-22页 |
| 2 实验部分 | 第22-37页 |
| ·实验试剂及仪器 | 第22-23页 |
| ·主要试剂和材料 | 第22页 |
| ·主要实验仪器 | 第22-23页 |
| ·钯/聚合物基复合膜的制备 | 第23-26页 |
| ·聚合物基膜的选择 | 第23-24页 |
| ·聚合物基膜的前处理 | 第24-25页 |
| ·配方及反应条件的确立 | 第25页 |
| ·传统化学镀法制备钯/聚合物基复合膜 | 第25页 |
| ·化学镀与渗透相结合的方法制备钯/聚合物基复合膜 | 第25页 |
| ·膜相渗透化学镀法制备钯/聚合物基复合膜 | 第25-26页 |
| ·复合膜的后处理 | 第26页 |
| ·Pd-Ag/PTFE 复合膜的制备 | 第26页 |
| ·PTFE 基膜的前处理 | 第26页 |
| ·化学镀银 | 第26页 |
| ·化学镀钯 | 第26页 |
| ·复合膜的后处理 | 第26页 |
| ·反应装置 | 第26-28页 |
| ·复合膜的表征方法及原理 | 第28-34页 |
| ·复合膜中钯沉积速率的测定 | 第28页 |
| ·复合膜的X 射线衍射分析和钯晶粒粒径的测定 | 第28-29页 |
| ·复合膜表面及断面微观形貌的观察 | 第29页 |
| ·复合膜的热分析 | 第29页 |
| ·复合膜的膜结构参数的测定 | 第29-34页 |
| ·复合膜性能测试 | 第34-37页 |
| ·复合膜的导电性能测试 | 第34-35页 |
| ·复合膜镀层结合力的测试 | 第35-36页 |
| ·复合膜的氢敏性能的测试 | 第36-37页 |
| 3 实验结果与讨论 | 第37-59页 |
| ·镀液配方及反应条件对钯沉积速率的影响 | 第37-39页 |
| ·镀液中PdCl_2 浓度对沉积速率的影响 | 第37页 |
| ·镀液中Na_2EDTA 浓度对沉积速率的影响 | 第37-38页 |
| ·镀液中NH_3·H_2O 浓度对沉积速率的影响 | 第38页 |
| ·镀液中N_2H_4·H_2O 浓度对沉积速率的影响 | 第38页 |
| ·反应时间对沉积速率的影响 | 第38页 |
| ·反应温度对沉积速率的影响 | 第38-39页 |
| ·膜制备的优化条件的确立 | 第39页 |
| ·基膜放置方式对膜层厚度的影响 | 第39-40页 |
| ·制备工艺对Pd/PTFE 复合膜结构及性能的影响 | 第40-45页 |
| ·制备工艺对Pd/PTFE 复合膜微观结构的影响 | 第40-43页 |
| ·制备工艺对膜孔结构的影响 | 第43-44页 |
| ·制备工艺对Pd/PTFE 复合膜截面电阻率的影响 | 第44-45页 |
| ·制备工艺对复合膜的镀层结合力的影响 | 第45页 |
| ·较优制备工艺的确立 | 第45页 |
| ·Pd/PTFE 复合膜后处理温度的确定 | 第45-46页 |
| ·Pd/PTFE 复合膜的X 衍射分析 | 第46-49页 |
| ·膜相渗透化学镀法制膜的实验现象及复合膜微观形貌分析 | 第49页 |
| ·聚合物基体膜对复合膜结构及性能的影响 | 第49-53页 |
| ·聚合物基体膜对复合前后膜孔结构变化的影响 | 第50-51页 |
| ·聚合物基体膜对镀层结合力的影响 | 第51-52页 |
| ·聚合物基体膜对膜截面电阻率的影响 | 第52-53页 |
| ·聚合物基体膜的确立 | 第53页 |
| ·Pd/PTFE 复合膜的氢敏性能分析 | 第53-55页 |
| ·Pd/PTFE 复合膜分别对氢气和氮气的不同响应 | 第53-54页 |
| ·Pd/PTFE 复合膜的重现性 | 第54页 |
| ·Pd/PTFE 复合膜吸放氢气后的形貌 | 第54-55页 |
| ·Pd-Ag/PTFE 复合膜的初探 | 第55-56页 |
| ·Pd-Ag/PTFE 复合膜的微观形貌分析 | 第55-56页 |
| ·Pd-Ag/PTFE 复合膜的X 衍射分析 | 第56页 |
| ·反应时间对膜相渗透化学镀法制备的复合膜孔结构的影响 | 第56-57页 |
| ·反应时间对膜相渗透化学镀法制备的复合膜截面电阻率的影响 | 第57-58页 |
| ·膜相渗透化学镀法机理的探讨 | 第58-59页 |
| ·敏化过程 | 第58页 |
| ·活化过程 | 第58页 |
| ·钯原位生长过程 | 第58-59页 |
| 4 结论与展望 | 第59-61页 |
| ·结论 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-66页 |
| 附录 | 第66-67页 |
| 独创性声明 | 第67页 |
| 学位论文版权使用授权书 | 第67页 |
