| 中文摘要 | 第1-6页 |
| 英文摘要 | 第6-7页 |
| 第一章：引言 | 第7-10页 |
| 第二章：钙态矿锰氧化物材料的结构、性质和物理机制 | 第10-29页 |
| §2.1 钙态矿锰氧化物的结构 | 第10-15页 |
| §2.1.1 晶体结构 | 第10-11页 |
| §2.1.2 电子态和电子结构 | 第11-13页 |
| §2.1.3 磁结构 | 第13-15页 |
| §2.2 钙态矿锰氧化物的磁电阻效应 | 第15-17页 |
| §2.2.1 正常磁电阻效应(OMR) | 第15-16页 |
| §2.2.2 钙钛矿锰氧化物中的特大磁电阻效应(CMR) | 第16页 |
| §2.2.3 多层膜和颗粒膜中的巨磁电阻效应(GMR) | 第16-17页 |
| §2.3 锰氧化合物CMR效应物理机制的研究 | 第17-21页 |
| §2.3.1 双交换作用(Double Exchange Interaction) | 第17-19页 |
| §2.3.2 极化子理论(Polaron Theory) | 第19-20页 |
| §2.3.3 杨-泰勒畸变(Jahn-Teller Distortion) | 第20-21页 |
| §2.4 影响CMR效应的几个因素 | 第21-24页 |
| §2.4.1 制备工艺对薄膜材料的CMR的影响 | 第21-23页 |
| §2.4.2 稀土和碱土离子半径对CMR的影响 | 第23页 |
| §2.4.3 外加等静压对CMR特性的影响 | 第23-24页 |
| §2.5 钙钛矿锰氧化物的光电诱导效应 | 第24-28页 |
| 本章小结 | 第28-29页 |
| 第三章 LCMO和LBMO系列块体、薄膜的制备及结构分析 | 第29-57页 |
| §3.1 钙钛矿CMR块体的制备方法 | 第29-31页 |
| §3.1.1 固相反应法 | 第29-30页 |
| §3.1.2 悬浮区熔法(float-zone method) | 第30页 |
| §3.1.3 溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第30-31页 |
| §3.2 溶胶-凝胶法制备钙钛矿CMR块材 | 第31-37页 |
| §3.2.1 溶胶 | 第31页 |
| §3.2.2 凝胶 | 第31页 |
| §3.2.3 溶胶、凝胶的制备方法 | 第31-33页 |
| §3.2.4 工艺条件的控制对溶胶、凝胶的影响 | 第33-35页 |
| §3.2.5 钙钛矿锰氧化物成分的选择 | 第35页 |
| §3.2.6 块体的具体制备过程 | 第35-37页 |
| §3.3 钙钛矿CMR薄膜材料的制备 | 第37-45页 |
| §3.3.1 脉冲激光沉积法(PLD) | 第38-40页 |
| §3.3.2 磁控溅射法 | 第40-41页 |
| §3.3.2 溶胶-凝胶薄膜制备法 | 第41-42页 |
| §3.3.4 CMR薄膜溶胶-凝胶法(Sol-Gel)制备的实验研究 | 第42-43页 |
| §3.3.5 CMR薄膜脉冲激光沉积法(PLD)制备的实验研究 | 第43-45页 |
| §3.4 La_(1-x)Ca_xMnO_3和La_(1-x)Ba_xMnO_3系列块状晶体和薄膜的结构分析 | 第45-56页 |
| §3.4.1 La_(1-x)Ca_xMnO_3和La_(1-x)Ba_xMnO_3系列晶体粉体X射线分析 | 第45-49页 |
| §3.4.1.1 实验所制样品物相分析 | 第46-49页 |
| §3.4.2 La_(1-x)Ca_xMnO_3(x=0.2,0.3和0.5)和La_(1-x)Ba_xMnO_3(x=0.25和0.5)系列薄膜特性参数 | 第49-56页 |
| §3.4.2.1 薄膜的X射线衍射分析 | 第49-51页 |
| §3.4.2.2 薄膜的成份和组分分析 | 第51-54页 |
| §3.4.2.3 薄膜质量的精确分析 | 第54-56页 |
| 本章小结 | 第56-57页 |
| 第四章 La_(1-x)Ca_xMnO_3和La_(1-x)Ba_xMnO_3系列薄膜的外场诱导特性研究 | 第57-73页 |
| §4.1 薄膜电极和引线设计 | 第57页 |
| §4.2 低温控温系统 | 第57-58页 |
| §4.3 薄膜的电阻-温度特性 | 第58-62页 |
| §4.3.1 A位离子半径对材料电阻率的影响 | 第60-61页 |
| §4.3.2 La_(0.8)Ca_(0.2)MnO_3薄膜电阻-温度的数学拟合 | 第61-62页 |
| §4.4 La_(0.7)Ca_(0.3)MnO_3薄膜的伏安特性 | 第62-63页 |
| §4.5 LCMO系列薄膜磁电阻效应研究 | 第63-65页 |
| §4.6 稳衡电流对薄膜电阻的影响 | 第65-67页 |
| §4.7 连续激光作用对薄膜物理性能的影响 | 第67-69页 |
| §4.8 磁场、电场和光场作用对CMR薄膜无理性能影响的机制研究 | 第69-72页 |
| 本章小结 | 第72-73页 |
| 第五章 结论与展望 | 第73-76页 |
| 参考文献 | 第76-80页 |
| 论文期间发表的文章 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81-82页 |
