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稀磁半导体ZnS掺杂Mn薄膜的研究

致谢第1-6页
中文摘要第6-7页
ABSTRACT第7-9页
第9-12页
1 引言第12-21页
   ·半导体自旋电子学的简介第12-13页
   ·稀磁半导体的基本介绍第13-16页
   ·ZnS基稀磁半导体的国内外研究现状第16-18页
   ·本论文研究的主要内容、目的及意义第18-21页
     ·主要研究内容第19-20页
     ·研究目的及意义第20-21页
2 论背景和计算模型第21-28页
   ·第一性原理计算第21-24页
     ·Hohenberg-Kohn定理第22页
     ·Kohn-Sham方程第22-23页
     ·DFT理论的优点和缺陷第23-24页
   ·VASP软件基本介绍第24-26页
     ·VASP程序的使用方法第24-26页
   ·超级原胞的构建及参数设置第26-28页
3 ZnS(110)表面掺杂Mn的研究第28-38页
   ·结构优化第29页
   ·Mn掺杂对体系稳定性和磁矩的影响第29-32页
   ·ZnS(110)掺杂Mn的态密度分析第32-37页
   ·电荷密度分析第37-38页
4 ZnS(111)表面掺杂Mn的研究第38-56页
   ·结构优化前的参数测试第39-43页
     ·Slab模型真空层厚度的选取第39-40页
     ·超级原胞的不同驰豫情况第40-43页
   ·单个Mn原子的掺杂第43-50页
     ·几何性质第43-44页
     ·结构稳定性第44页
     ·电子和磁性性质第44-50页
   ·两个Mn原子的掺杂第50-56页
     ·几何性质第50-51页
     ·结构稳定性第51页
     ·电子和磁性性质第51-56页
5 结论第56-57页
参考文献第57-60页
作者简历第60-62页
学位论文数据集第62页

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