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高特征温度大功率应变量子阱半导体激光器设计研究

第一章 前言第1-13页
 §1.1 半导体激光器的发展与应用第7-8页
 §1.2 半导体激光器的应用第8-10页
 §1.3 应变量子阱激光器第10-11页
 §1.4 本论文研究的主要内容第11-13页
第二章 半导体激光器的温度特性第13-35页
 §2.1 引言第13-16页
  §2.1.1 半导体激光器的温度特性第13页
  §2.1.2 特征温度T_0第13-14页
  §2.1.3 影响T_0的物理因素第14-16页
 §2.2 载流子泄漏对T_0的影响第16-23页
  §2.2.1 超越异质结势垒的准平衡载流子泄漏第16-17页
  §2.2.2 少子在限制层中的运动与载流子泄漏第17-18页
  §2.2.3 阈值及其温度关系第18-21页
  §2.2.4 有效质量对泄漏的影响第21-22页
  §2.2.5 重空穴有效质量对T_0的影响第22-23页
 §2.3 俄歇复合对T_0的影响第23-27页
  §2.3.1 体材料中的俄歇复合第23-25页
  §2.3.2 量子阱中中的俄歇复合第25-26页
  §2.3.3 俄歇复合率随载流子浓度的变化第26-27页
 §2.4 价带间跃迁对T_0的影响第27-34页
  §2.4.1 价带间光吸收对微分量子效率的影响第27-30页
  §2.4.2 体材料与量子阱材料中的价带间光吸收第30-32页
  §2.4.3 量子阱激光器中价带间光吸收随带隙与温度的变化第32-33页
  §2.4.4 价带间光吸收对T_0的影响第33-34页
 §2.5 本章小结第34-35页
第三章 应变量子阱激光器原理和结构第35-58页
 §3.1 量子阱激光器结构原理第35-45页
  §3.1.1 超晶格物理与量子阱第35-36页
  §3.1.2 量子阱中的能量状态与二维电子气第36-40页
  §3.1.3 量子阱中载流子的能量分布第40-41页
  §3.1.4 量子阱中载流子的收集与复合第41-42页
  §3.1.5 量子阱激光器结构第42-45页
 §3.2 应变量子阱激光器第45页
 §3.3 晶格失配与应变第45-47页
 §3.4 临界厚度第47-50页
  §3.4.1 异质结应变层的临界厚度第47-49页
  §3.4.2 临界厚度的确定第49-50页
 §3.5 应变量子阱能带结构第50-53页
  §3.5.1 应变对能带结构的影响第50-52页
  §3.5.2 应变量子阱的能带结构第52-53页
 §3.6 应变量子阱激光器增益特性第53-56页
  §3.6.1 模增益特性第53-54页
  §3.6.2 阈值电流特性第54-55页
  §3.6.3 偏振选择性第55-56页
 §3.7 应变量子阱激光器温度特性第56-57页
 §3.8 本章小结第57-58页
第四章 压应变量子阱激光器结构设计和实验分析第58-64页
 §4.1 高T_0值大功率压应变量子阱激光器结构设计第58-61页
 §4.2 高T_0值大功率压应变量子阱激光器工作特性测试与实验分析第61-64页
致谢第64-65页
参考文献第65-67页

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