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微等离子体金属表面陶瓷化的工艺及机理研究

摘要第1-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第8-23页
   ·概述第8-10页
     ·微弧氧化技术第8-9页
     ·微弧氧化技术发展历史第9-10页
     ·微弧氧化技术研究现状第10页
   ·微弧氧化技术工艺机理第10-14页
   ·微弧氧化技术工艺特点和氧化膜的特性第14-15页
     ·微弧氧化的工艺特点第14页
     ·微弧氧化陶瓷膜的性能特点第14-15页
   ·陶瓷膜的制备及其影响因素第15-18页
     ·陶瓷膜的制备方法第15-16页
     ·影响陶瓷膜制备的因素第16-18页
   ·应用第18-21页
     ·Al_2O_3陶瓷膜的应用第19页
     ·TiO_2陶瓷膜的应用第19-20页
     ·总结第20-21页
   ·本文主要研究的内容第21-23页
     ·铝及其合金的微弧氧化试验第21页
     ·钛及其合金的微弧氧化试验第21-22页
     ·小结第22-23页
第2章 试验设备第23-26页
   ·试验装置图第23页
   ·电源第23-25页
     ·电源简介第23-24页
     ·电源原理图第24页
     ·电源技术参数第24页
     ·输出波形第24-25页
   ·冷却设备第25页
   ·检测设备及辅助器具第25-26页
第3章 铝及其合金的微弧氧化试验第26-47页
   ·试验材料第26页
   ·电解质溶液对微弧氧化成膜的影响第26-37页
     ·NaOH电解质溶液第26-29页
     ·NaH_2PO_4电解质溶液第29-32页
     ·Na_2CO_3电解质溶液第32-35页
     ·Na_2SiO_3电解质溶液第35-37页
   ·反应时间对微弧氧化成膜的影响第37-39页
   ·微弧氧化形成氧化膜层的X射线衍射的相结构分析第39-41页
   ·添加剂对微弧氧化成膜的影响第41-43页
     ·NaH_2PO_4电解质溶液中添加NaOH溶液第41页
     ·Na_2SiO_3电解质溶液中加入无机添加剂第41-43页
   ·等离子体微弧氧化成膜的耐磨性和耐蚀性试验第43-46页
     ·耐磨性试验第43-44页
     ·耐蚀性试验第44-46页
   ·本章小结第46-47页
第4章 钛及其合金的微弧氧化试验第47-68页
   ·试验材料第47页
   ·不同电解质溶液对微弧氧化成膜的影响第47-60页
     ·酸性电解质溶液第48-50页
     ·中性电解质溶液第50-51页
     ·碱性电解质溶液第51-52页
     ·NaH_2PO_4和H_3PO_4混合电解质溶液第52-56页
     ·Na_2SiO_3和Na_2CO_3混合电解质溶液第56-60页
   ·添加剂对微弧氧化成膜的影响第60-67页
     ·Na_2WO_4第60-61页
     ·Na_2WO_4与NaH_2PO_4、H_3PO_4的混合溶液第61-62页
     ·Na_2WO_4与Na_2CO_3、Na_2SiO_3的混合溶液第62-64页
     ·Na_2Mo_7O_(24)第64-65页
     ·Na_2Mo_7O_(24)与Na_2CO_3、Na_2SiO_3的混合溶液第65-66页
     ·硅酸乙酯第66-67页
   ·本章小结第67-68页
第5章 结论第68-70页
攻读学位期间公开发表的论文第70-71页
致谢第71-72页
参考文献第72-75页

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