摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第8-23页 |
·概述 | 第8-10页 |
·微弧氧化技术 | 第8-9页 |
·微弧氧化技术发展历史 | 第9-10页 |
·微弧氧化技术研究现状 | 第10页 |
·微弧氧化技术工艺机理 | 第10-14页 |
·微弧氧化技术工艺特点和氧化膜的特性 | 第14-15页 |
·微弧氧化的工艺特点 | 第14页 |
·微弧氧化陶瓷膜的性能特点 | 第14-15页 |
·陶瓷膜的制备及其影响因素 | 第15-18页 |
·陶瓷膜的制备方法 | 第15-16页 |
·影响陶瓷膜制备的因素 | 第16-18页 |
·应用 | 第18-21页 |
·Al_2O_3陶瓷膜的应用 | 第19页 |
·TiO_2陶瓷膜的应用 | 第19-20页 |
·总结 | 第20-21页 |
·本文主要研究的内容 | 第21-23页 |
·铝及其合金的微弧氧化试验 | 第21页 |
·钛及其合金的微弧氧化试验 | 第21-22页 |
·小结 | 第22-23页 |
第2章 试验设备 | 第23-26页 |
·试验装置图 | 第23页 |
·电源 | 第23-25页 |
·电源简介 | 第23-24页 |
·电源原理图 | 第24页 |
·电源技术参数 | 第24页 |
·输出波形 | 第24-25页 |
·冷却设备 | 第25页 |
·检测设备及辅助器具 | 第25-26页 |
第3章 铝及其合金的微弧氧化试验 | 第26-47页 |
·试验材料 | 第26页 |
·电解质溶液对微弧氧化成膜的影响 | 第26-37页 |
·NaOH电解质溶液 | 第26-29页 |
·NaH_2PO_4电解质溶液 | 第29-32页 |
·Na_2CO_3电解质溶液 | 第32-35页 |
·Na_2SiO_3电解质溶液 | 第35-37页 |
·反应时间对微弧氧化成膜的影响 | 第37-39页 |
·微弧氧化形成氧化膜层的X射线衍射的相结构分析 | 第39-41页 |
·添加剂对微弧氧化成膜的影响 | 第41-43页 |
·NaH_2PO_4电解质溶液中添加NaOH溶液 | 第41页 |
·Na_2SiO_3电解质溶液中加入无机添加剂 | 第41-43页 |
·等离子体微弧氧化成膜的耐磨性和耐蚀性试验 | 第43-46页 |
·耐磨性试验 | 第43-44页 |
·耐蚀性试验 | 第44-46页 |
·本章小结 | 第46-47页 |
第4章 钛及其合金的微弧氧化试验 | 第47-68页 |
·试验材料 | 第47页 |
·不同电解质溶液对微弧氧化成膜的影响 | 第47-60页 |
·酸性电解质溶液 | 第48-50页 |
·中性电解质溶液 | 第50-51页 |
·碱性电解质溶液 | 第51-52页 |
·NaH_2PO_4和H_3PO_4混合电解质溶液 | 第52-56页 |
·Na_2SiO_3和Na_2CO_3混合电解质溶液 | 第56-60页 |
·添加剂对微弧氧化成膜的影响 | 第60-67页 |
·Na_2WO_4 | 第60-61页 |
·Na_2WO_4与NaH_2PO_4、H_3PO_4的混合溶液 | 第61-62页 |
·Na_2WO_4与Na_2CO_3、Na_2SiO_3的混合溶液 | 第62-64页 |
·Na_2Mo_7O_(24) | 第64-65页 |
·Na_2Mo_7O_(24)与Na_2CO_3、Na_2SiO_3的混合溶液 | 第65-66页 |
·硅酸乙酯 | 第66-67页 |
·本章小结 | 第67-68页 |
第5章 结论 | 第68-70页 |
攻读学位期间公开发表的论文 | 第70-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-75页 |