| 引言 | 第1-9页 |
| 1 氮化硅陶瓷制备的综述 | 第9-32页 |
| ·氮化硅及氮化硅陶瓷的性能 | 第9-15页 |
| ·组成与结构 | 第9-10页 |
| ·外貌 | 第10页 |
| ·密度与比重 | 第10-11页 |
| ·电绝缘性 | 第11页 |
| ·热学性质 | 第11-12页 |
| ·机械性能 | 第12-13页 |
| ·化学稳定性 | 第13-15页 |
| ·小结 | 第15页 |
| ·氮化硅陶瓷的制备 | 第15-19页 |
| ·氮化硅烧结的主要类型及工艺概述 | 第15-17页 |
| ·氮化硅烧结的基本理论 | 第17-18页 |
| ·烧结工艺对氮化硅制品性能的影响因素 | 第18-19页 |
| ·氮化硅陶瓷制备工艺的改进 | 第19-24页 |
| ·促进烧结提高制品的致密度 | 第19-20页 |
| ·提高制品高温性能的途径 | 第20-21页 |
| ·氮化硅陶瓷的增韧 | 第21-24页 |
| ·氮化硅陶瓷的应用 | 第24-26页 |
| ·氮化硅陶瓷制品的应用 | 第25页 |
| ·Si_3N_4复合材料的应用 | 第25-26页 |
| ·纳米技术 | 第26-30页 |
| ·纳米材料的发展阶段 | 第27页 |
| ·纳米材料基础研究成果及作用 | 第27-29页 |
| ·纳米陶瓷的研究成果 | 第29-30页 |
| ·研究背景及内容 | 第30-32页 |
| ·相关背景 | 第30页 |
| ·研究内容 | 第30-32页 |
| 2 实验原理及方案 | 第32-41页 |
| ·实验目的 | 第32页 |
| ·试样的制备 | 第32-37页 |
| ·原枓的参数 | 第32-35页 |
| ·试样配方、理论密度及烧结参数列表和试样制备的工艺流程图 | 第35-36页 |
| ·试样制备过程 | 第36-37页 |
| ·测试试样的制备 | 第37页 |
| ·试样性能的检测方法及原理 | 第37-39页 |
| ·体积密度、气孔率的检测 | 第37页 |
| ·硬度的检测 | 第37页 |
| ·断裂韧性的检测 | 第37-38页 |
| ·抗折强度的检测 | 第38-39页 |
| ·试样断口及组织的SEM分析 | 第39页 |
| ·块体试样的相成份测定 | 第39页 |
| ·实验主要仪器及设备 | 第39-41页 |
| 3 检测结果及讨论 | 第41-69页 |
| ·物相分析 | 第41-43页 |
| ·一元系统的物相分析 | 第41页 |
| ·二元系统的物相分析 | 第41-43页 |
| ·小结 | 第43页 |
| ·微观结构 | 第43-53页 |
| ·一元系统的微观结构 | 第43-47页 |
| ·二元系统烧结试样的微观组织结构分析 | 第47-53页 |
| ·致密度的检测与分析 | 第53-57页 |
| ·对各组密度数据的描述 | 第53-55页 |
| ·烧结过程分析 | 第55-56页 |
| ·影响试样密度因素的分析 | 第56-57页 |
| ·烧结体的抗折强度 | 第57-60页 |
| ·对数据的描述 | 第57-59页 |
| ·致密度、气孔对烧结体抗折强度的影响 | 第59-60页 |
| ·影响抗折强度的其他因素 | 第60页 |
| ·硬度的检测与分析 | 第60-64页 |
| ·断裂韧性的检测与讨论 | 第64-67页 |
| ·对烧结体断裂韧性的描述 | 第64-65页 |
| ·长柱状晶粒对烧结体断裂韧性的作用 | 第65页 |
| ·玻璃相与Si_3N_4界面的应力状态对烧结体断裂韧性的影响 | 第65-66页 |
| ·气孔对断裂韧性提高的作用 | 第66页 |
| ·添加剂晶相对断裂韧性的影响 | 第66页 |
| ·第二相对断裂韧陸的作用-A1517、A15165号试样的分析 | 第66-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 4 结论与展望 | 第69-70页 |
| ·结论 | 第69页 |
| ·展望 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-74页 |
