| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-9页 |
| 引言 | 第9-11页 |
| 材料与方法 | 第11-14页 |
| ·仪器与设备 | 第11页 |
| ·实验材料 | 第11页 |
| ·实验设计分组 | 第11-12页 |
| ·实验流程图 | 第12页 |
| ·研究方法 | 第12-14页 |
| 实验结果 | 第14-19页 |
| ·种植体表面粗糙度(Ra)检测 | 第14页 |
| ·种植体表面电镜观察 | 第14-16页 |
| ·表面元素含量分布分析 | 第16-19页 |
| 讨论 | 第19-26页 |
| ·微弧氧化 | 第19-21页 |
| ·微弧氧化处理时间对纯钛种植体氧化膜层的影响 | 第21-23页 |
| ·纯钛种植体MAO处理膜层与SLA处理膜层对比研究 | 第23-24页 |
| ·MAO处理纯钛种植体表面发展展望 | 第24-26页 |
| 结论 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-30页 |
| 附图 | 第30-36页 |
| 综述 | 第36-50页 |
| 综述参考文献 | 第45-50页 |
| 攻读学位期间研究成果 | 第50-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |