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As-S基玻璃和薄膜二阶非线性光学性能的研究

第一章 绪论第1-18页
   ·绪言第9页
   ·非线性光学材料第9-10页
   ·二阶非线性光学玻璃的研究进展第10-15页
     ·玻璃非线性光学效应的条件及特点第10-11页
     ·二阶非线性光学玻璃的研究进展第11-15页
       ·玻璃中激光诱导的SHG第12-13页
       ·玻璃在温度场/电场中的SHG第13-15页
       ·电子束辐射极化玻璃中的SHG第15页
   ·研究课题的提出第15-18页
     ·研究的目的第16页
     ·研究的内容及意义第16-18页
第二章 二阶非线性光学效应的理论基础第18-29页
   ·非线性极化产生的物理基础第18-21页
   ·非线性光学的基础理论第21-23页
   ·光学二次谐波(SHG)发生的原理第23页
   ·材料结构的空间对称性与二阶非线性性能的关系第23-25页
   ·Maker条纹测试原理第25-27页
   ·薄膜光波导中的的二次谐波的产生第27-29页
第三章 As-S-Se三元体系玻璃的研究第29-38页
   ·试验方法第29-32页
     ·玻璃样品的制备第29页
     ·玻璃原料的预处理第29-30页
     ·工艺制度的确立第30-32页
   ·样品测试第32-33页
     ·差热分析测试第32页
     ·X射线衍射(XRD)测试第32页
     ·透红外性能测试第32页
     ·密度测试第32-33页
     ·玻璃的化稳性测定第33页
   ·实验结果与分析第33-37页
     ·As-S-Se系统的成玻性能第33-34页
     ·X射线衍射第34-35页
     ·差热分析(DTA)第35页
     ·透红外性能第35-36页
     ·密度测试结果第36页
     ·玻璃的化稳性第36-37页
   ·小结第37-38页
第四章 旋转涂覆法制备硫化砷玻璃薄膜第38-44页
   ·样品的制备第38-39页
     ·试验所用药品第38页
     ·试验所用设备第38页
     ·试验过程第38-39页
   ·样品测试第39页
   ·结果和讨论第39-43页
     ·薄膜厚度和折射率的测量计算原理第39-40页
     ·薄膜禁带宽度的计算方法第40页
     ·粉末的X射线分析第40-41页
     ·波长和薄膜厚度对薄膜折射率的影响第41-42页
     ·退火工艺对薄膜性质的影响第42页
     ·小结第42-43页
   ·试验总结与展望第43-44页
第五章 磁控溅射法制备硫化砷玻璃薄膜第44-51页
   ·实验过程第44-46页
     ·硫化砷靶材的制备第44-45页
     ·薄膜的制备第45-46页
   ·磁控溅射的原理和设备第46-47页
   ·样品测试第47页
   ·实验结果与分析第47-50页
     ·紫外-可见光谱测试结果第47-48页
     ·薄膜的扫描电镜的结果第48页
     ·XPS光电子能谱分析的结果第48-50页
   ·总结和展望第50-51页
第六章 As-S基玻璃及其薄膜的二阶非线性光学特性第51-65页
   ·样品的极化处理第51-55页
     ·样品的极化方法第51-52页
     ·As-S薄膜的极化处理第52页
     ·热诱导去极化电流(TSDC)的测试第52-55页
       ·TSDC测试原理第52-54页
       ·TSDC测试方法第54-55页
     ·玻璃二阶非线性光学特性的测试第55页
   ·玻璃样品弛豫活化能及其弛豫时间的计算方法第55-58页
     ·弛豫时间的计算方法第56-58页
   ·实验结果及其分析讨论第58-64页
     ·As-S-Se体系TSDC测试结果第58-60页
       ·不同组成对TSDC的影响第58-59页
       ·极化工艺对TSDC测试的影响第59-60页
     ·As-S-Se体系的Maker条纹测试结果与分析第60-63页
       ·该体系玻璃成分对其二阶非线性性能的影响第60-61页
       ·电场/温度场极化工艺对该体系玻璃非线性性能的影响第61-62页
       ·未极化As-S-Se玻璃和极化玻璃旋转180°的Maker条纹第62-63页
     ·As-S薄膜的TSDC和Maker条纹测试结果第63-64页
   ·小结第64-65页
第七章 结论第65-67页
参考文献第67-70页
致谢第70页

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