第一章 绪论 | 第1-18页 |
·绪言 | 第9页 |
·非线性光学材料 | 第9-10页 |
·二阶非线性光学玻璃的研究进展 | 第10-15页 |
·玻璃非线性光学效应的条件及特点 | 第10-11页 |
·二阶非线性光学玻璃的研究进展 | 第11-15页 |
·玻璃中激光诱导的SHG | 第12-13页 |
·玻璃在温度场/电场中的SHG | 第13-15页 |
·电子束辐射极化玻璃中的SHG | 第15页 |
·研究课题的提出 | 第15-18页 |
·研究的目的 | 第16页 |
·研究的内容及意义 | 第16-18页 |
第二章 二阶非线性光学效应的理论基础 | 第18-29页 |
·非线性极化产生的物理基础 | 第18-21页 |
·非线性光学的基础理论 | 第21-23页 |
·光学二次谐波(SHG)发生的原理 | 第23页 |
·材料结构的空间对称性与二阶非线性性能的关系 | 第23-25页 |
·Maker条纹测试原理 | 第25-27页 |
·薄膜光波导中的的二次谐波的产生 | 第27-29页 |
第三章 As-S-Se三元体系玻璃的研究 | 第29-38页 |
·试验方法 | 第29-32页 |
·玻璃样品的制备 | 第29页 |
·玻璃原料的预处理 | 第29-30页 |
·工艺制度的确立 | 第30-32页 |
·样品测试 | 第32-33页 |
·差热分析测试 | 第32页 |
·X射线衍射(XRD)测试 | 第32页 |
·透红外性能测试 | 第32页 |
·密度测试 | 第32-33页 |
·玻璃的化稳性测定 | 第33页 |
·实验结果与分析 | 第33-37页 |
·As-S-Se系统的成玻性能 | 第33-34页 |
·X射线衍射 | 第34-35页 |
·差热分析(DTA) | 第35页 |
·透红外性能 | 第35-36页 |
·密度测试结果 | 第36页 |
·玻璃的化稳性 | 第36-37页 |
·小结 | 第37-38页 |
第四章 旋转涂覆法制备硫化砷玻璃薄膜 | 第38-44页 |
·样品的制备 | 第38-39页 |
·试验所用药品 | 第38页 |
·试验所用设备 | 第38页 |
·试验过程 | 第38-39页 |
·样品测试 | 第39页 |
·结果和讨论 | 第39-43页 |
·薄膜厚度和折射率的测量计算原理 | 第39-40页 |
·薄膜禁带宽度的计算方法 | 第40页 |
·粉末的X射线分析 | 第40-41页 |
·波长和薄膜厚度对薄膜折射率的影响 | 第41-42页 |
·退火工艺对薄膜性质的影响 | 第42页 |
·小结 | 第42-43页 |
·试验总结与展望 | 第43-44页 |
第五章 磁控溅射法制备硫化砷玻璃薄膜 | 第44-51页 |
·实验过程 | 第44-46页 |
·硫化砷靶材的制备 | 第44-45页 |
·薄膜的制备 | 第45-46页 |
·磁控溅射的原理和设备 | 第46-47页 |
·样品测试 | 第47页 |
·实验结果与分析 | 第47-50页 |
·紫外-可见光谱测试结果 | 第47-48页 |
·薄膜的扫描电镜的结果 | 第48页 |
·XPS光电子能谱分析的结果 | 第48-50页 |
·总结和展望 | 第50-51页 |
第六章 As-S基玻璃及其薄膜的二阶非线性光学特性 | 第51-65页 |
·样品的极化处理 | 第51-55页 |
·样品的极化方法 | 第51-52页 |
·As-S薄膜的极化处理 | 第52页 |
·热诱导去极化电流(TSDC)的测试 | 第52-55页 |
·TSDC测试原理 | 第52-54页 |
·TSDC测试方法 | 第54-55页 |
·玻璃二阶非线性光学特性的测试 | 第55页 |
·玻璃样品弛豫活化能及其弛豫时间的计算方法 | 第55-58页 |
·弛豫时间的计算方法 | 第56-58页 |
·实验结果及其分析讨论 | 第58-64页 |
·As-S-Se体系TSDC测试结果 | 第58-60页 |
·不同组成对TSDC的影响 | 第58-59页 |
·极化工艺对TSDC测试的影响 | 第59-60页 |
·As-S-Se体系的Maker条纹测试结果与分析 | 第60-63页 |
·该体系玻璃成分对其二阶非线性性能的影响 | 第60-61页 |
·电场/温度场极化工艺对该体系玻璃非线性性能的影响 | 第61-62页 |
·未极化As-S-Se玻璃和极化玻璃旋转180°的Maker条纹 | 第62-63页 |
·As-S薄膜的TSDC和Maker条纹测试结果 | 第63-64页 |
·小结 | 第64-65页 |
第七章 结论 | 第65-67页 |
参考文献 | 第67-70页 |
致谢 | 第70页 |