| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-19页 |
| ·常温红外焦平面阵列技术研究进展 | 第8-12页 |
| ·非致冷红外焦平面阵列的原理 | 第9-10页 |
| ·各种微测辐射热计阵列的设计方案比较 | 第10-12页 |
| ·非致冷测热辐射计阵列用敏感材料的电阻变化 | 第12-13页 |
| ·红外焦平面阵列用氧化钒材料 | 第13-18页 |
| ·VO_2薄膜相变原理及性质 | 第14-16页 |
| ·氧化钒薄膜的制备工艺 | 第16-17页 |
| ·氧化钒材料的应用前景 | 第17-18页 |
| ·本论文的研究意义与研究目的 | 第18-19页 |
| 第二章 磁控溅射氧化钒薄膜的制备 | 第19-25页 |
| ·氧化钒薄膜材料的磁控溅射制备 | 第19-22页 |
| ·溅射镀膜的基本原理 | 第19页 |
| ·溅射镀膜的特点 | 第19-20页 |
| ·磁控溅射原理 | 第20-22页 |
| ·实验 | 第22-25页 |
| ·材料及溅射条件 | 第22-23页 |
| ·制备氧化钒薄膜的实验条件选择 | 第23-25页 |
| 第三章 溅射氧化钒薄膜材料的方阻分析及敏感特性研究 | 第25-34页 |
| ·氧化钒薄膜材料方阻分析 | 第25-27页 |
| ·氧流量对方阻的影响 | 第26页 |
| ·基片温度的影响 | 第26-27页 |
| ·溅射功率的影响 | 第27页 |
| ·氧化钒薄膜材料敏感特性研究 | 第27-32页 |
| ·结果 | 第32页 |
| ·分析 | 第32页 |
| ·小结 | 第32-34页 |
| 第四章 氧化钒薄膜材料的XPS分析 | 第34-47页 |
| ·薄膜的XPS分析技术 | 第34-35页 |
| ·电子能谱方法的特点 | 第35-40页 |
| ·XPS能谱分析 | 第40-45页 |
| ·实验分析 | 第45-46页 |
| ·小结 | 第46-47页 |
| 第五章 微测热辐射计的物理设计与微桥结构的研制 | 第47-57页 |
| ·一层微测热辐射计 | 第47页 |
| ·二层微测热射计 | 第47-50页 |
| ·微桥结构的研制 | 第50-55页 |
| ·设计思路 | 第50-51页 |
| ·具体的设计方案 | 第51页 |
| ·具体设计和工艺流程 | 第51-55页 |
| ·微桥工艺流程的分析 | 第55页 |
| ·小结 | 第55-57页 |
| 第六章 结论与展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |