摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第一章 绪论 | 第10-22页 |
·光助Fenton反应机理 | 第10-12页 |
·光助Fenton反应的应用 | 第12-14页 |
·光助Fenton试剂的改良 | 第14-18页 |
·蒙脱石概况 | 第18-20页 |
·蒙脱石的性质和结构 | 第18页 |
·蒙脱石的电荷 | 第18页 |
·蒙脱石的吸水膨胀性 | 第18-19页 |
·蒙脱石的离子交换和吸附性能 | 第19页 |
·蒙脱石改性方法 | 第19-20页 |
·本课题研究目的与意义 | 第20-21页 |
·研究的主要内容 | 第21-22页 |
第二章 掺杂Ce的羟基铁铝插层蒙脱石及谷氨酸螯合铁插层蒙脱石的制备 | 第22-27页 |
·实验材料 | 第22页 |
·实验主要仪器和设备 | 第22-23页 |
·插层蒙脱石的制备 | 第23-27页 |
·掺杂Ce的羟基铁铝插层蒙脱石的制备 | 第23-25页 |
·谷氨酸螯合铁插层蒙脱石的制备 | 第25-27页 |
第三章 插层蒙脱石的表征 | 第27-43页 |
·表征方法 | 第27-30页 |
·X射线粉末衍射分析(XRD) | 第27页 |
·红外光谱分析(FTIR) | 第27-28页 |
·X 射线荧光光谱分析(XRF) | 第28页 |
·比表面积和孔结构分析 | 第28-29页 |
·X射线光电子能谱(XPS) | 第29-30页 |
·紫外可见漫反射吸收光谱(UV-Vis DR) | 第30页 |
·催化剂表征结果分析 | 第30-40页 |
·掺杂Ce的羟基铁铝插层蒙脱石的表征结果分析 | 第30-35页 |
·谷氨酸螯合铁插层蒙脱石的表征结果分析 | 第35-40页 |
·本章小结 | 第40-43页 |
第四章 掺杂Ce的羟基铁铝插层蒙脱石的光催化性能研究 | 第43-49页 |
·光催化实验步骤 | 第43-44页 |
·光催化实验结果分析 | 第44-48页 |
·不同Ce掺杂量对光催化效果的影响 | 第44-45页 |
·不同反应体系中的光催化效果 | 第45-46页 |
·不同催化剂投加量对催化剂的光催化效果的影响 | 第46页 |
·不同H_2O_2初始浓度对催化剂的光催化效果的影响 | 第46-47页 |
·不同pH条件对催化剂的光催化效果的影响 | 第47-48页 |
·本章小结 | 第48-49页 |
第五章 谷氨酸螯合铁插层蒙脱石的光催化性能研究 | 第49-57页 |
·光催化实验步骤 | 第50页 |
·光催化实验结果 | 第50-55页 |
·不同反应体系中催化剂的光催化效果 | 第50-51页 |
·催化剂投加量对催化效果的影响 | 第51-52页 |
·H_2O_2初始投加量对催化效果的影响 | 第52页 |
·pH对催化效果的影响 | 第52-53页 |
·UV和太阳光的对比 | 第53-54页 |
·光照强度对催化效果的影响 | 第54页 |
·掺杂Ce对催化效果的影响 | 第54-55页 |
·本章小结 | 第55-57页 |
结论与展望 | 第57-59页 |
结论 | 第57-58页 |
展望 | 第58-59页 |
参考文献 | 第59-68页 |
攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第68-69页 |
致谢 | 第69-70页 |
附件 | 第70页 |