中文摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-13页 |
第一章 综述 | 第13-25页 |
第一节 现代光谱分析和分离科学概述 | 第13-17页 |
·光谱分析和分离富集概论 | 第13页 |
·几种常见的分离富集方法 | 第13-17页 |
第二节 金属离子分析概述 | 第17-18页 |
·金属离子分析的意义 | 第17页 |
·ICP-AES在金属离子分析中的应用 | 第17-18页 |
第三节 分离科学中的固相萃取技术 | 第18-21页 |
·固相萃取概述及其基本原理 | 第18-19页 |
·固相萃取中常用的吸附材料 | 第19-21页 |
·固相萃取技术应用及其展望 | 第21页 |
第四节 本论文的选题思路及相关研究 | 第21-22页 |
参考文献 | 第22-25页 |
第二章 钍(Ⅳ)离子印迹硅胶吸附剂的制备及其选择性固相萃取研究 | 第25-36页 |
·引言 | 第25-26页 |
·实验部分 | 第26-28页 |
·实验仪器及设备 | 第26页 |
·化学药品和试剂 | 第26-27页 |
·样品处理 | 第27页 |
·印迹和非印迹聚合物的制备 | 第27-28页 |
·离子印迹-固相萃取程序 | 第28-29页 |
·静态吸附试验 | 第28页 |
·动态分析试验 | 第28-29页 |
·选择性实验 | 第29页 |
·结果与讨论 | 第29-34页 |
·红外谱图分析 | 第29-30页 |
·富集酸度的影响 | 第30-31页 |
·流速的影响 | 第31-32页 |
·洗脱条件的选择 | 第32页 |
·待测溶液的最大体积和富集因子 | 第32页 |
·吸附容量 | 第32-33页 |
·印迹吸附剂的选择性 | 第33页 |
·方法的精密度和检出限 | 第33页 |
·实际样品分析 | 第33-34页 |
·结论 | 第34页 |
参考文献 | 第34-36页 |
第三章 N-2-吡啶基马来酰胺酸修饰的活性炭对铜的富集分离研究 | 第36-45页 |
·引言 | 第36页 |
·实验部分 | 第36-38页 |
·仪器装置 | 第36-37页 |
·试剂和标准溶液 | 第37页 |
·样品的制备 | 第37-38页 |
·N-2-吡啶基马来酰胺酸修饰的活性炭(PSAAC)合成 | 第38页 |
·固相萃取程序 | 第38页 |
·实验结果与讨论 | 第38-43页 |
·酸度的选择 | 第39页 |
·吸附剂用量的影响 | 第39-40页 |
·洗脱条件的影响 | 第40页 |
·样品溶液流速的影响 | 第40-41页 |
·吸附剂的稳定性 | 第41页 |
·吸附容量的测定 | 第41页 |
·常见电解质的影响 | 第41-42页 |
·样品的最大体积 | 第42页 |
·方法检出限与精密度 | 第42页 |
·实际样品分析 | 第42-43页 |
·结论 | 第43页 |
参考文献 | 第43-45页 |
第四章 三聚氰胺修饰的活性炭对水样中Cd(Ⅱ)、Cr(Ⅲ)和Cu(Ⅱ)的富集性能研究 | 第45-56页 |
·引言 | 第45-46页 |
·实验部分 | 第46-48页 |
·实验试剂 | 第46页 |
·实验仪器装置及参数 | 第46页 |
·样品处理 | 第46-47页 |
·三聚氰胺负载的活性炭制备过程 | 第47页 |
·红外光谱图表征 | 第47-48页 |
·富集程序 | 第48页 |
·结果与讨论 | 第48-54页 |
·富集酸度的影响 | 第48-49页 |
·吸附剂质量对吸附的影响 | 第49页 |
·振荡时间对吸附性能的影响 | 第49-50页 |
·洗脱条件对吸附性能的影响 | 第50-51页 |
·最大样品体积及富集因子 | 第51页 |
·静态吸附容量 | 第51页 |
·干扰离子的影响 | 第51-52页 |
·分析方法的精密度和检出限 | 第52页 |
·实际样品的分析 | 第52-54页 |
·结论 | 第54页 |
参考文献 | 第54-56页 |
展望 | 第56-57页 |
在读期间发表论文 | 第57-60页 |
致谢 | 第60页 |