| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-13页 |
| 第1章 引言 | 第13-36页 |
| ·选题背景 | 第13-14页 |
| ·燃料油中硫的分布 | 第14-16页 |
| ·汽油的硫分布 | 第14-15页 |
| ·柴油的硫分布 | 第15-16页 |
| ·加氢脱硫工艺及最新进展 | 第16-32页 |
| ·加氢脱硫机理 | 第16-17页 |
| ·传统加氢脱硫工艺及催化剂 | 第17-19页 |
| ·深度加氢脱硫工艺 | 第19-21页 |
| ·深度加氢脱硫催化剂 | 第21-32页 |
| ·吸附脱硫 | 第32-33页 |
| ·对研究现状的思考及课题的主要研究内容 | 第33-35页 |
| ·主要创新 | 第35-36页 |
| 第2章 实验方法 | 第36-45页 |
| ·实验原料 | 第36-37页 |
| ·载体及其制备 | 第37-38页 |
| ·催化剂的制备 | 第38-39页 |
| ·M/Al_2O_3催化剂的制备(M为Ru,Pd) | 第38页 |
| ·M-CeO_2/Al_2O_3催化剂的制备(M为Ru,Pd) | 第38-39页 |
| ·催化剂的预处理 | 第39页 |
| ·催化剂活性的评价 | 第39-40页 |
| ·催化剂的表征 | 第40-45页 |
| 第3章 CeO_2对不同贵金属在加氢脱硫反应的改性作用 | 第45-55页 |
| ·催化剂的XRD分析 | 第45页 |
| ·CeO_2对Ru/Al_2O_3催化剂HDS性能的影响 | 第45-46页 |
| ·Ru基催化剂的TPR—S、噻吩吸附热及与活性关系 | 第46-48页 |
| ·CeO_2的对Pd/Al_2O_3催化剂HDS反应性能的影响 | 第48-49页 |
| ·Pd基催化剂的还原性能 | 第49-50页 |
| ·Pd基催化剂的酸性和噻吩吸附性能 | 第50-51页 |
| ·CeO_2对Pd/Al_2O_3催化剂改性机理 | 第51-55页 |
| 第4章 Ce含量对Pd/Al_2O_3催化剂加氢脱硫性能的影响 | 第55-63页 |
| ·催化剂的XRD分析 | 第55-56页 |
| ·Ce含量对Pd/Al_2O_3催化剂还原性能的影响 | 第56-57页 |
| ·Ce含量对Pd/Al_2O_3催化剂H_2吸附性能的影响 | 第57-58页 |
| ·Ce含量对Pd/Al_2O_3催化剂NH_3吸附性能的影响 | 第58-59页 |
| ·催化剂对噻吩的吸附 | 第59页 |
| ·Ce含量对Pd/Al_2O_3催化剂HDS活性的影响 | 第59-63页 |
| 第五章 Pd-CeO_2/Al_2O_3催化剂的结构及在HDS反应中的影响 | 第63-74页 |
| ·XRD分析结果 | 第63-64页 |
| ·催化剂的表面物理结构分析 | 第64-66页 |
| ·催化剂活性 | 第66页 |
| ·催化剂的还原性能 | 第66-67页 |
| ·NH_3-TPD与催化剂酸性 | 第67-69页 |
| ·H_2吸附及CO吸附 | 第69-72页 |
| ·Pd-CeO_2/Al_2O_3的结构与HDS活性的关系 | 第72-74页 |
| 第6章 还原温度及预处理对Pd-CeO_2/Al_2O_3催化剂HDS性能的影响 | 第74-84页 |
| ·预处理的Pd-CeO_2/Al_2O_3催化剂的还原性能 | 第74-75页 |
| ·催化剂的XRD分析 | 第75-77页 |
| ·H_2吸附和CO吸附 | 第77-78页 |
| ·酸性 | 第78-80页 |
| ·催化剂活性 | 第80-84页 |
| 第7章 Ce改性的Pd/Al_2O_3催化剂在加氢脱硫反应的抗硫性能 | 第84-91页 |
| ·催化剂的活性与抗硫性能 | 第85-86页 |
| ·Pd的硫化度 | 第86-87页 |
| ·催化剂FT-IR分析 | 第87-88页 |
| ·催化剂TG分析 | 第88-89页 |
| ·CeO_2改性催化剂抗硫的机理 | 第89-91页 |
| 第8章 氯离子与Pd-Ce界面结构的关系及其与活性、抗硫性能的关系 | 第91-100页 |
| ·催化剂的XPS分析 | 第91-93页 |
| ·催化剂的XRD分析 | 第93-94页 |
| ·CeO_2和制备方法对Pd基催化剂分散度的影响 | 第94-95页 |
| ·不同催化剂的活性与抗硫性能 | 第95-96页 |
| ·催化剂的酸性及其对活性的影响 | 第96-97页 |
| ·催化剂的FT-IR分析 | 第97-100页 |
| 第9章 结论与展望 | 第100-103页 |
| 参考文献 | 第103-113页 |
| 研究期间主要成果 | 第113-114页 |
| 致谢 | 第114页 |
