激光作用下SiC晶须生长条件的研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-11页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·SIC 晶须的研究状况 | 第12-13页 |
| ·SIC 晶须的制备方法 | 第13-18页 |
| ·固相法 | 第14-16页 |
| ·液相法 | 第16-17页 |
| ·气相法 | 第17-18页 |
| ·SIC 晶须的生长机理 | 第18-20页 |
| ·VLS 机理 | 第18-19页 |
| ·VS 机理 | 第19-20页 |
| ·基于激光的 SiC 晶须的制备 | 第20页 |
| ·本文的研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 激光照射层的能量场及温度场分析 | 第22-34页 |
| ·平行光斑照射层的能量场分析 | 第23-27页 |
| ·激光能量场模型简化 | 第23-24页 |
| ·激光光斑半径的计算 | 第24-26页 |
| ·激光光斑内的能量计算 | 第26-27页 |
| ·垂直光斑照射层的温度场分析 | 第27-33页 |
| ·激光照射层的能量分布 | 第27-29页 |
| ·激光照射层的温度场分析 | 第29-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 激光照射下SIC 晶须的制备及分析 | 第34-55页 |
| ·实验总体设想思路 | 第34-35页 |
| ·实验部分 | 第35-37页 |
| ·实验设备介绍 | 第35页 |
| ·实验步骤 | 第35-37页 |
| ·实验结果分析 | 第37-51页 |
| ·成分分析 | 第37-38页 |
| ·微观结构分析 | 第38-51页 |
| ·SiC 晶须生长条件和生长过程 | 第51-54页 |
| ·SiC 晶须生长条件 | 第51-52页 |
| ·SiC 晶须生长过程 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第4章 粘结剂对晶须生长的影响 | 第55-63页 |
| ·粘结剂对其纯度的影响 | 第55页 |
| ·粘结剂对晶须生长形貌的影响 | 第55-61页 |
| ·粘结剂对晶须生长数量的影响 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 总结和展望 | 第63-66页 |
| ·本文的主要工作总结 | 第63-64页 |
| ·今后的工作展望 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第70页 |
