| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 1 引言 | 第11-19页 |
| ·透明导电膜的发展及应用 | 第11-12页 |
| ·多层结构复合膜的应用与研究现状 | 第12-13页 |
| ·SiO_2物性及 SiO_2薄膜应用 | 第13-14页 |
| ·SiO_2物性 | 第13-14页 |
| ·SiO_2薄膜应用 | 第14页 |
| ·ITO 薄膜相结构及电学性能简介 | 第14-15页 |
| ·ITO 薄膜的相结构 | 第14-15页 |
| ·ITO 薄膜电学性能 | 第15页 |
| ·Cu 的物性及 Cu 薄膜简介 | 第15页 |
| ·PET 简介 | 第15-16页 |
| ·多层膜的光学性质理论计算 | 第16-18页 |
| ·金属薄膜的光学性质 | 第16-17页 |
| ·多层介质膜的反射率和透射率 | 第17-18页 |
| ·本课题研究的目的与意义 | 第18-19页 |
| 2 薄膜的制备方法及性能表征 | 第19-28页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第19-20页 |
| ·离子溅射原理 | 第19页 |
| ·磁控溅射原理 | 第19-20页 |
| ·本研究的设备概况、实验参数、样品制备过程 | 第20-21页 |
| ·本研究的设备概况 | 第20-21页 |
| ·本研究的试验参数 | 第21页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第21页 |
| ·样品的表征 | 第21-28页 |
| ·薄膜光学性质的测量 | 第21-23页 |
| ·薄膜电学性质的表征 | 第23-25页 |
| ·薄膜晶体结构分析 | 第25-26页 |
| ·薄膜的形貌表征 | 第26-28页 |
| 3 膜系设计以及 Si02缓冲层厚度对 ITO/Cu/ITO 薄膜物性的影响 | 第28-36页 |
| ·Cu 基柔性 ITO/Cu/ITO 膜系的选择 | 第28-29页 |
| ·同厚度的 ITO 薄膜和 ITO/Cu/ITO 薄膜光学性能比较 | 第28-29页 |
| ·同厚度的 ITO 薄膜和 ITO/Cu/ITO 薄膜电学性质比较 | 第29页 |
| ·SiO_2缓冲层厚度对 ITO/Cu/ITO 薄膜物性的影响 | 第29-34页 |
| ·SiO_2/ITO/Cu/ITO 薄膜的制备 | 第29-30页 |
| ·SiO_2层厚度对薄膜结构的影响 | 第30-31页 |
| ·SiO_2层厚度对薄膜表面形貌的影响 | 第31-32页 |
| ·SiO_2层厚度对薄膜光学性质的影响 | 第32-33页 |
| ·SiO_2层厚度对薄膜电学性质的影响 | 第33-34页 |
| ·SiO_2层厚度对薄膜面电阻和电阻率的影响 | 第33-34页 |
| ·SiO_2层厚度对薄膜载流子浓度以及霍尔迁移率的影响 | 第34页 |
| ·具有不同厚度 SiO_2缓冲层的 ITO/Cu/ITO 薄膜的品质常数 | 第34-35页 |
| ·本章小结 | 第35-36页 |
| 4 Cu 层厚度对 SiO_2/ITO/Cu/ITO 薄膜性能的影响 | 第36-43页 |
| ·SiO_2/ITO/Cu/ITO 薄膜的制备 | 第36页 |
| ·有无缓冲层的 ITO/Cu/ITO 薄膜性能比较 | 第36-37页 |
| ·PET 及 ITO/Cu/ITO 薄膜表面形貌 | 第36页 |
| ·SiO_2/ITO/Cu/ITO 薄膜的光学透过率 | 第36-37页 |
| ·SiO_2/ITO/Cu/ITO 薄膜的电学性能比较 | 第37页 |
| ·Cu 层厚度对薄膜物性的影响 | 第37-42页 |
| ·Cu 层厚度对薄膜结构的影响 | 第38-39页 |
| ·Cu 层厚度对薄膜光学性质的影响 | 第39-41页 |
| ·Cu 层厚度对薄膜电学性质的影响 | 第41-42页 |
| ·具有不同 Cu 层厚度的 SiO_2/ITO/Cu/ITO 薄膜的品质常数 | 第42页 |
| ·本章小结 | 第42-43页 |
| 5 ITO 层厚度对 SiO_2/ITO/Cu/ITO 薄膜物性影响 | 第43-47页 |
| ·ITO 层厚度对薄膜结构的影响 | 第43-45页 |
| ·ITO 层厚度对薄膜光学性质的影响 | 第45-46页 |
| ·ITO 层厚度对薄膜电学性质的影响 | 第46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 6 结论与展望 | 第47-49页 |
| ·结论 | 第47页 |
| ·展望 | 第47-49页 |
| 参考文献 | 第49-54页 |
| 在读硕士学位期间公开发表的论文清单 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |
