| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·显示器发展趋势 | 第8-10页 |
| ·场电子发射研究及其应用进展 | 第10-13页 |
| ·碳纳米管薄膜场发射的研究及其应用进展 | 第13-15页 |
| ·本论文的主要工作 | 第15-17页 |
| 参考文献 | 第17-20页 |
| 第二章 理论基础和实验方法 | 第20-32页 |
| ·场发射的理论基础 | 第20-25页 |
| ·薄膜生长方法 | 第25页 |
| ·碳纳米管薄膜的场发射性能测试 | 第25-28页 |
| ·碳纳米管薄膜的表征 | 第28-29页 |
| 参考文献 | 第29-32页 |
| 第三章 CVD方法制备多壁碳纳米管薄膜 | 第32-42页 |
| ·实验材料及所用化学试剂 | 第32-33页 |
| ·试验设备及工作原理 | 第33-34页 |
| ·实验过程 | 第34-36页 |
| ·催化剂的制备 | 第34-35页 |
| ·Fe(NO_3)_3、Mg(NO_3)_2及Ni(NO_3)_2、Mg(NO_3)_2体系制备多壁碳纳米管(自由生长)及其SEM表征 | 第35-36页 |
| ·实验结果分析及讨论 | 第36-40页 |
| ·生长机理的讨论 | 第36-37页 |
| ·丝网印刷结合CVD原位生长碳纳米管薄膜 | 第37-40页 |
| ·本章小结 | 第40-41页 |
| 参考文献 | 第41-42页 |
| 第四章 碳纳米管场发射性能的研究 | 第42-64页 |
| ·碳纳米管场发射阴极模型及发射性能指标的评价 | 第42-43页 |
| ·碳纳米管场发射阴极模型 | 第42-43页 |
| ·场发射性能的主要指标 | 第43页 |
| ·实验过程及结果讨论 | 第43-61页 |
| ·银浆涂敷法制备阴极及其场发射性能测试 | 第43-44页 |
| ·基于丝网印刷技术的碳纳米管场发射冷阴极制作 | 第44-49页 |
| ·平栅极结构碳纳米管场发射性能实验研究 | 第49-54页 |
| ·激光烧蚀对碳纳米管薄膜场发射性能的影响 | 第54-61页 |
| ·本章小结 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-64页 |
| 第五章 总结与建议 | 第64-66页 |
| 硕士期间完成的论文及课题 | 第66-67页 |
| 致谢 | 第67页 |