| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第1章 序言 | 第8-12页 |
| ·聚焦离子束的应用前景 | 第8-9页 |
| ·研究纳米孔洞的意义 | 第9-11页 |
| ·本论文的研究工作 | 第11-12页 |
| 第2章 离子-固体相互作用的基本原理 | 第12-19页 |
| ·边界弹性碰撞 | 第12-13页 |
| ·固体中的原子相互作用势 | 第13-15页 |
| ·Moliere势 | 第14页 |
| ·普适势 | 第14-15页 |
| ·散射截面和核阻止本领 | 第15-18页 |
| ·微分散射截面 | 第16-17页 |
| ·核阻止本领 | 第17-18页 |
| ·本章小结 | 第18-19页 |
| 第3章 溅射模型和射程的分布 | 第19-26页 |
| ·溅射的一般描述 | 第19页 |
| ·溅射产额方程 | 第19-23页 |
| ·Sigmund方程 | 第19-21页 |
| ·溅射产额的半经验公式 | 第21-22页 |
| ·Wilhelm方程 | 第22页 |
| ·溅射产额对离子入射角度的依赖性公式 | 第22-23页 |
| ·射程和射程分布 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-26页 |
| 第4章 MONTE CARLO方法的介绍 | 第26-37页 |
| ·MONTE CARLO方法的基本理论 | 第26-32页 |
| ·Monte Carlo方法的基本特点 | 第26-27页 |
| ·随机子样、子样均值和子样均方差 | 第27-28页 |
| ·Monte Carlo方法中常用的分布 | 第28-30页 |
| ·Monte Carlo方法中随机数的产生方法 | 第30页 |
| ·Monte Carlo方法中随机变量的抽样 | 第30-32页 |
| ·离子与固体相互作用过程的模拟过程 | 第32-36页 |
| ·TRIM程序的介绍 | 第33页 |
| ·模拟原理及物理模型 | 第33-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第5章 溅射产额和损伤深度的数值模拟研究 | 第37-49页 |
| ·FIB研磨单层薄膜的研究 | 第37-42页 |
| ·FIB研磨Si_3N_4薄膜中溅射产额的计算 | 第37-39页 |
| ·FIB研磨Si_3N_4薄膜中损伤深度的计算 | 第39-42页 |
| ·FIB研磨多层薄膜的研究 | 第42-48页 |
| ·FIB研磨Au-Ti-GaAs薄膜中溅射产额的计算 | 第43-45页 |
| ·FIB研磨Au-Ti-GaAs薄膜引起损伤的研究 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第6章 结论和展望 | 第49-51页 |
| ·本文结论 | 第49-50页 |
| ·展望 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-54页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文和研究成果 | 第54-55页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第54页 |
| 攻读学位期间参加的研究项目 | 第54页 |
| 获奖情况 | 第54-55页 |
| 致谢 | 第55页 |