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硫化物晶膜的溶剂热生长与性质研究

中文摘要第1-8页
Abstract第8-10页
第一章 绪论第10-28页
   ·薄膜材料及制备方法概述第10-15页
     ·薄膜材料概述第10页
     ·薄膜材料的制备方法第10-15页
   ·溶剂热法制备薄膜材料第15-16页
     ·溶剂热法概述第15-16页
     ·溶剂热法制备薄膜概述第16页
   ·溶剂热法在金属基片上制备薄膜材料研究进展第16-22页
     ·溶剂热法在金属Zn 片上制备薄膜第17-18页
     ·溶剂热法在金属Cu 片上制备薄膜第18-19页
     ·溶剂热法在金属Ag 片上制备薄膜第19页
     ·溶剂热法在金属Fe 片上制备薄膜第19-20页
     ·溶剂热法在金属Ni 片上制备薄膜第20页
     ·溶剂热法在金属Sn 片上制备薄膜第20-21页
     ·溶剂热法在金属Pb 片上制备薄膜第21-22页
     ·溶剂热法在金属Ti 片上制备薄膜第22页
   ·表面活性剂第22-24页
     ·表面活性剂简介第22-24页
     ·表面活性剂在纳米材料制备中的作用第24页
   ·论文研究的意义及主要内容第24-25页
 参考文献第25-28页
第二章 溶剂热法在铜基片上制备Cu25 薄膜第28-39页
   ·前言第28页
   ·实验部分第28-29页
     ·实验试剂第28-29页
     ·样品表征第29页
     ·实验过程第29页
   ·结果与讨论第29-35页
     ·XRD 分析第29-31页
     ·Cu25 薄膜的生长第31-32页
     ·表面活性剂CTAB 和PEG-6000 的影响第32-33页
     ·在不同的溶剂体系中生长Cu25 薄膜第33-34页
     ·Cu25 薄膜的形成机理第34页
     ·Cu25 薄膜的光学性质第34-35页
   ·结论第35-36页
 参考文献第36-39页
第三章 溶剂热法在铜基片上制备Cu_2Se 薄膜第39-49页
   ·前言第39页
   ·实验部分第39-40页
     ·实验试剂第39页
     ·样品表征第39-40页
     ·实验过程第40页
   ·结果与讨论第40-46页
     ·在不加表面活性剂的情况下制备Cu_2Se 薄膜第40-43页
     ·在加表面活性剂的情况下制备Cu_2Se 薄膜第43-44页
     ·在不同的溶剂体系中生长Cu_2Se 薄膜第44-45页
     ·Cu_2Se 薄膜薄膜的光学性质第45-46页
   ·结论第46页
 参考文献第46-49页
第四章 溶剂热法在镍基片上制备Ni_3S_2薄膜第49-60页
   ·前言第49页
   ·实验部分第49-50页
     ·实验试剂第49页
     ·样品表征第49-50页
     ·实验过程第50页
   ·结果与讨论第50-58页
     ·在不加表面活性剂的情况下制备Ni_3S_2 薄膜第50-53页
     ·在加表面活性剂的情况下制备Ni_3S_2 薄膜第53-54页
     ·在不同的溶剂体系中生长Ni_3S_2 薄膜第54-56页
     ·Ni_3S_2 薄膜的形成机理第56页
     ·Ni_3S_2 薄膜的光学性质第56-58页
   ·结论第58页
 参考文献第58-60页
第五章 溶剂热法在镍基片上制备Ni-TCNQ 薄膜第60-69页
   ·前言第60页
   ·实验部分第60-61页
     ·实验试剂第60页
     ·样品表征第60页
     ·实验过程第60-61页
   ·结果与讨论第61-68页
     ·在不加表面活性剂的情况下制备Ni-TCNQ 薄膜第61-64页
     ·在加表面活性剂的情况下制备Ni-TCNQ 薄膜第64-65页
     ·在不同的溶剂体系中生长Ni-TCNQ 薄膜第65-66页
     ·Ni-TCNQ 薄膜的光学性质第66-68页
   ·结论第68页
 参考文献第68-69页
第六章 全文总结第69-71页
   ·本论文的总结第69-70页
   ·对未来工作的设想第70-71页
硕士期间发表的论文第71-72页
致谢第72页

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