中文摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-10页 |
第一章 绪论 | 第10-28页 |
·薄膜材料及制备方法概述 | 第10-15页 |
·薄膜材料概述 | 第10页 |
·薄膜材料的制备方法 | 第10-15页 |
·溶剂热法制备薄膜材料 | 第15-16页 |
·溶剂热法概述 | 第15-16页 |
·溶剂热法制备薄膜概述 | 第16页 |
·溶剂热法在金属基片上制备薄膜材料研究进展 | 第16-22页 |
·溶剂热法在金属Zn 片上制备薄膜 | 第17-18页 |
·溶剂热法在金属Cu 片上制备薄膜 | 第18-19页 |
·溶剂热法在金属Ag 片上制备薄膜 | 第19页 |
·溶剂热法在金属Fe 片上制备薄膜 | 第19-20页 |
·溶剂热法在金属Ni 片上制备薄膜 | 第20页 |
·溶剂热法在金属Sn 片上制备薄膜 | 第20-21页 |
·溶剂热法在金属Pb 片上制备薄膜 | 第21-22页 |
·溶剂热法在金属Ti 片上制备薄膜 | 第22页 |
·表面活性剂 | 第22-24页 |
·表面活性剂简介 | 第22-24页 |
·表面活性剂在纳米材料制备中的作用 | 第24页 |
·论文研究的意义及主要内容 | 第24-25页 |
参考文献 | 第25-28页 |
第二章 溶剂热法在铜基片上制备Cu25 薄膜 | 第28-39页 |
·前言 | 第28页 |
·实验部分 | 第28-29页 |
·实验试剂 | 第28-29页 |
·样品表征 | 第29页 |
·实验过程 | 第29页 |
·结果与讨论 | 第29-35页 |
·XRD 分析 | 第29-31页 |
·Cu25 薄膜的生长 | 第31-32页 |
·表面活性剂CTAB 和PEG-6000 的影响 | 第32-33页 |
·在不同的溶剂体系中生长Cu25 薄膜 | 第33-34页 |
·Cu25 薄膜的形成机理 | 第34页 |
·Cu25 薄膜的光学性质 | 第34-35页 |
·结论 | 第35-36页 |
参考文献 | 第36-39页 |
第三章 溶剂热法在铜基片上制备Cu_2Se 薄膜 | 第39-49页 |
·前言 | 第39页 |
·实验部分 | 第39-40页 |
·实验试剂 | 第39页 |
·样品表征 | 第39-40页 |
·实验过程 | 第40页 |
·结果与讨论 | 第40-46页 |
·在不加表面活性剂的情况下制备Cu_2Se 薄膜 | 第40-43页 |
·在加表面活性剂的情况下制备Cu_2Se 薄膜 | 第43-44页 |
·在不同的溶剂体系中生长Cu_2Se 薄膜 | 第44-45页 |
·Cu_2Se 薄膜薄膜的光学性质 | 第45-46页 |
·结论 | 第46页 |
参考文献 | 第46-49页 |
第四章 溶剂热法在镍基片上制备Ni_3S_2薄膜 | 第49-60页 |
·前言 | 第49页 |
·实验部分 | 第49-50页 |
·实验试剂 | 第49页 |
·样品表征 | 第49-50页 |
·实验过程 | 第50页 |
·结果与讨论 | 第50-58页 |
·在不加表面活性剂的情况下制备Ni_3S_2 薄膜 | 第50-53页 |
·在加表面活性剂的情况下制备Ni_3S_2 薄膜 | 第53-54页 |
·在不同的溶剂体系中生长Ni_3S_2 薄膜 | 第54-56页 |
·Ni_3S_2 薄膜的形成机理 | 第56页 |
·Ni_3S_2 薄膜的光学性质 | 第56-58页 |
·结论 | 第58页 |
参考文献 | 第58-60页 |
第五章 溶剂热法在镍基片上制备Ni-TCNQ 薄膜 | 第60-69页 |
·前言 | 第60页 |
·实验部分 | 第60-61页 |
·实验试剂 | 第60页 |
·样品表征 | 第60页 |
·实验过程 | 第60-61页 |
·结果与讨论 | 第61-68页 |
·在不加表面活性剂的情况下制备Ni-TCNQ 薄膜 | 第61-64页 |
·在加表面活性剂的情况下制备Ni-TCNQ 薄膜 | 第64-65页 |
·在不同的溶剂体系中生长Ni-TCNQ 薄膜 | 第65-66页 |
·Ni-TCNQ 薄膜的光学性质 | 第66-68页 |
·结论 | 第68页 |
参考文献 | 第68-69页 |
第六章 全文总结 | 第69-71页 |
·本论文的总结 | 第69-70页 |
·对未来工作的设想 | 第70-71页 |
硕士期间发表的论文 | 第71-72页 |
致谢 | 第72页 |