D-T/D-D中子发生器技术研究
摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-10页 |
第一章 引言 | 第10-18页 |
·D-D/D-T中子发生器的研究背景及研究现状 | 第10-16页 |
·D-D/D-T中子发生器的重要用途 | 第10-12页 |
·D-D/D-T中子发生器的国内外研究现状 | 第12-16页 |
·ZF300强流中子发生器简介及研究内容 | 第16-18页 |
第二章 强流束传输理论及中子发生器D束包络计算 | 第18-27页 |
·强流束传输理论 | 第18-23页 |
·漂移空间强流束旁轴包络方程 | 第18-19页 |
·加速区强流束旁轴包络方程 | 第19-20页 |
·磁四极透镜强流束旁轴包络方程 | 第20-21页 |
·分析磁铁强流束旁轴包络方程 | 第21-22页 |
·总结 | 第22-23页 |
·中子发生器D束传输系统束包络计算及传输元件参数 | 第23-27页 |
·束包络数值计算方法及模拟计算程序简介 | 第23-24页 |
·D束传输系统束包络计算及传输元件参数 | 第24-27页 |
第三章 中子发生器元件的研制及实验测试 | 第27-52页 |
·双等离子源及其电源 | 第27-29页 |
·离子源结构及灯丝改造 | 第27-28页 |
·离子源供电系统及实验测试 | 第28-29页 |
·加速管 | 第29-32页 |
·磁四极透镜 | 第32-34页 |
·分析磁铁 | 第34-35页 |
·高压电源及中频供电系统 | 第35-36页 |
·控制系统简介 | 第36-40页 |
·计算机控制和参量监测系统 | 第37-39页 |
·手动控制及表头显示参量监测 | 第39-40页 |
·靶室及伴随粒子法中子产额测量系统 | 第40-52页 |
·D-D中子产额的伴随粒子测量 | 第41-47页 |
·D-T中子产额的伴随粒子测量 | 第47-52页 |
第四章 中子发生器的初步实验调试 | 第52-61页 |
·中子发生器的总体结构 | 第52-53页 |
·质子束调试 | 第53-55页 |
·D束流调试及D-T中子产额初步测量 | 第55-57页 |
·D束流调试及D-D中子产额初步测量 | 第57-60页 |
·大面积高速旋转靶研制进展简介 | 第60-61页 |
第五章 总结与展望 | 第61-63页 |
·总结 | 第61-62页 |
·展望 | 第62-63页 |
参考文献 | 第63-67页 |
在学期间的研究成果 | 第67-68页 |
致谢 | 第68页 |