| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 引言 | 第6-11页 |
| ·脉冲激光烧蚀技术的背景 | 第6-7页 |
| ·GPRD技术简介 | 第7-8页 |
| ·碳氮材料 | 第8-9页 |
| ·P型氧化锌薄膜材料 | 第9-10页 |
| ·本文的研究内容和结构 | 第10-11页 |
| 第二章 两种主要制备方法 | 第11-19页 |
| ·引言 | 第11-13页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第13-16页 |
| ·脉冲激光烧蚀(PLA) | 第13-14页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD)技术 | 第14-16页 |
| ·GPRD方法 | 第16-19页 |
| ·辉光放电和弧光放电 | 第16-18页 |
| ·氮碳等离子体的产生 | 第18-19页 |
| 第三章 碳氮纳米锥的制备 | 第19-34页 |
| ·引言 | 第19-21页 |
| ·实验装置和薄膜制备方法 | 第21-23页 |
| ·碳氮纳米锥阵列表征与结果分析 | 第23-33页 |
| ·结果讨论与展望 | 第33-34页 |
| 第四章 P型掺铋氧化锌薄膜制备 | 第34-41页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·P型掺铋氧化锌薄膜的制备及表征 | 第35-41页 |
| ·结果讨论与展望 | 第41页 |
| 第五章 总结 | 第41-42页 |
| 参考文献 | 第42-50页 |
| 致谢 | 第50-51页 |
| 后记 | 第51-53页 |