| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-28页 |
| ·前言 | 第9-10页 |
| ·石墨烯的性质 | 第10-14页 |
| ·sp2 杂化碳质材料的基本结构单元 | 第10-11页 |
| ·真正的二维晶体 | 第11-12页 |
| ·石墨烯的物理性质 | 第12-14页 |
| ·石墨烯的制备方法 | 第14-15页 |
| ·机械剥离法 | 第14页 |
| ·加热SiC 法 | 第14-15页 |
| ·氧化石墨的热膨胀法及氧化石墨烯还原法 | 第15页 |
| ·化学气相沉积 | 第15页 |
| ·石墨烯的应用前景 | 第15-18页 |
| ·良好的物理实验平台 | 第15-16页 |
| ·纳米电子器件———高频晶体管 | 第16页 |
| ·单电子晶体管 | 第16-17页 |
| ·石墨烯纳米复合物 | 第17页 |
| ·显微滤网和传感器 | 第17页 |
| ·超导材料 | 第17-18页 |
| ·石墨烯—新型储能材料 | 第18-20页 |
| ·石墨烯在超级电容器中的应用 | 第18-19页 |
| ·石墨烯在锂离子电池中的应用 | 第19页 |
| ·石墨烯在太阳能电池中的应用 | 第19-20页 |
| ·石墨烯在储氢/甲烷中的应用 | 第20页 |
| ·电化学电容器 | 第20-24页 |
| ·电化学电容器分类 | 第21页 |
| ·电化学电容器工作原理 | 第21-23页 |
| ·电化学电容器电极材料发展 | 第23-24页 |
| ·石墨烯作为新型储能材料的前景分析 | 第24页 |
| ·氧化石墨 | 第24-26页 |
| ·氧化石墨的制备 | 第24-25页 |
| ·氧化石墨的结构 | 第25-26页 |
| ·Hummer 法制备氧化石墨的影响因素 | 第26页 |
| ·本论文的选题背景、研究内容和意义 | 第26-28页 |
| 第二章 氧化石墨的制备及表征 | 第28-34页 |
| ·实验部分 | 第29-30页 |
| ·试剂及仪器 | 第29页 |
| ·氧化石墨制备 | 第29-30页 |
| ·氧化石墨表征 | 第30-33页 |
| ·XRD | 第30-31页 |
| ·XPS | 第31-32页 |
| ·SEM 和 TEM | 第32页 |
| ·TG-DSC | 第32-33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 石墨烯的制备及电化学性质 | 第34-56页 |
| ·实验部分 | 第35页 |
| ·试剂与仪器 | 第35页 |
| ·低温膨胀制备石墨烯 | 第35页 |
| ·不同氧化时间得到氧化石墨制备的石墨烯表征 | 第35-38页 |
| ·XRD | 第35-36页 |
| ·SEM | 第36页 |
| ·N2 吸附 | 第36-37页 |
| ·XPS | 第37-38页 |
| ·不同氧化时间得到氧化石墨制备的石墨烯电化学性能测试 | 第38-43页 |
| ·电极制作 | 第38页 |
| ·循环伏安测试 | 第38-40页 |
| ·恒电流充放电测试 | 第40-42页 |
| ·电化学阻抗法 | 第42-43页 |
| ·不同温度热处理得到的石墨烯表征 | 第43-47页 |
| ·XRD | 第43页 |
| ·SEM | 第43-44页 |
| ·TEM | 第44-45页 |
| ·N2 吸附 | 第45-46页 |
| ·AFM | 第46页 |
| ·XPS | 第46-47页 |
| ·EPR | 第47页 |
| ·不同温度热处理得到的石墨烯电化学性能测试 | 第47-49页 |
| ·循环伏安测试 | 第47-48页 |
| ·恒电流测试 | 第48-49页 |
| ·电化学阻抗法 | 第49页 |
| ·不同热处理条件得到的石墨烯表征 | 第49-52页 |
| ·XRD | 第49-50页 |
| ·SEM | 第50-51页 |
| ·N2 吸附 | 第51页 |
| ·XPS | 第51-52页 |
| ·不同热处理条件得到的石墨烯电化学性能测试 | 第52-55页 |
| ·循环伏安测试 | 第52-53页 |
| ·恒电流测试 | 第53-54页 |
| ·电化学阻抗法 | 第54页 |
| ·锂离子电池性能测试 | 第54-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第四章 基于石墨烯的纳米结构的构筑及改性 | 第56-65页 |
| ·石墨烯的B、N 掺杂 | 第57-59页 |
| ·实验 | 第57页 |
| ·B、N 掺杂石墨烯的XPS 表征 | 第57页 |
| ·N 掺杂石墨烯的N2 吸附测试 | 第57-58页 |
| ·N 掺杂石墨烯的循环伏安测试 | 第58-59页 |
| ·N 掺杂石墨烯的交流阻抗测试 | 第59页 |
| ·石墨烯的分散 | 第59-61页 |
| ·石墨烯溶液 | 第59-60页 |
| ·石墨烯分散后的SEM | 第60页 |
| ·石墨烯分散后的AFM | 第60-61页 |
| ·氧化石墨烯薄膜的自组装及B、N 掺杂 | 第61-63页 |
| ·氧化石墨烯膜的自组装 | 第61页 |
| ·氧化石墨烯膜的SEM | 第61-62页 |
| ·氧化石墨烯膜的厚度调控 | 第62页 |
| ·氧化石墨烯膜的B、N 掺杂 | 第62-63页 |
| ·B、N 掺杂氧化石墨烯膜的XPS | 第63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 结论与展望 | 第65-67页 |
| ·主要结论 | 第65-66页 |
| ·工作展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第73-74页 |
| 致谢 | 第74页 |