| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-14页 |
| ·氧化钒材料应用背景介绍 | 第8-12页 |
| ·国内外光开关研究现状及氧化钒薄膜应用于光开关器件的优势 | 第12-13页 |
| ·本论文的课题背景、研究目的和意义 | 第13-14页 |
| 第二章 氧化钒的结构、性能、制备及研究方法 | 第14-34页 |
| ·氧化钒的物理化学性质 | 第14-20页 |
| ·钒氧化物体系的基本物理、化学性质 | 第14-15页 |
| ·二氧化钒的物理化学性质 | 第15-17页 |
| ·五氧化二钒的物理化学性质 | 第17-18页 |
| ·三氧化二钒的物理化学性质 | 第18-19页 |
| ·氧化钒的热敏性能 | 第19-20页 |
| ·钒氧化物体系的相变机理及二氧化钒薄膜相变性能研究 | 第20-25页 |
| ·氧化钒薄膜制备方法 | 第25-30页 |
| ·真空技术 | 第25-26页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第26-27页 |
| ·溅射镀膜法（包括直流对靶磁控溅射镀膜法和双离子束溅射镀膜法） | 第27-28页 |
| ·溶胶—凝胶法（Sol-Gel） | 第28-29页 |
| ·液相沉积法和热分解法 | 第29页 |
| ·脉冲激光沉积法 | 第29-30页 |
| ·氧化钒薄膜的分析与表征手段 | 第30-34页 |
| ·X 射线衍射法（XRD） | 第30-31页 |
| ·X 射线光电子能谱法（XPS） | 第31-32页 |
| ·扫描电子显微镜法（SEM）和原子力显微镜法（AFM） | 第32页 |
| ·傅里叶红外光谱法（FT-IR Spectrometer） | 第32-34页 |
| 第三章 双离子束溅射氧化钒薄膜的研究 | 第34-49页 |
| ·氧化钒薄膜的分析与表征手段 | 第34页 |
| ·实验的主要装置及实验准备 | 第34-38页 |
| ·基底制备与清洗 | 第34-35页 |
| ·离子束溅射 | 第35-37页 |
| ·热处理设备 | 第37-38页 |
| ·相变二氧化钒薄膜的制备 | 第38-41页 |
| ·用DIBSD 方法制备氧化钒薄膜 | 第38-40页 |
| ·氧化钒薄膜的热处理 | 第40-41页 |
| ·结果分析及表征 | 第41-45页 |
| ·相变特性及光开关性能研究 | 第45-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 第四章 直流对靶磁控溅射制备相变氧化钒薄膜的研究 | 第49-59页 |
| ·制备方案 | 第49页 |
| ·具有相变特性的氧化钒薄膜的制备方法 | 第49-52页 |
| ·氧化钒薄膜的制备 | 第50-51页 |
| ·氧化钒薄膜的热处理 | 第51-52页 |
| ·结果分析及表征 | 第52-56页 |
| ·相变特性研究 | 第56-58页 |
| ·本章小结 | 第58-59页 |
| 第五章 全文总结及展望 | 第59-61页 |
| ·全文总结 | 第59-60页 |
| ·本文创新点 | 第60页 |
| ·本研究局限性和今后的工作展望 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-67页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第67-68页 |
| 致谢 | 第68页 |
