| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-16页 |
| ·引言 | 第9页 |
| ·铁氧体薄膜的应用 | 第9-13页 |
| ·薄膜电感 | 第10-12页 |
| ·微波器件 | 第12-13页 |
| ·微波旋磁材料的发展 | 第13-15页 |
| ·NiZn 软磁铁氧体材料的发展现状 | 第14-15页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜材料的发展 | 第15页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 NiZn 铁氧体薄膜的制备、表征和测试方法 | 第16-28页 |
| ·实验方法及过程 | 第16页 |
| ·薄膜的制备方法 | 第16-18页 |
| ·NiZn 铁氧体薄膜的制备 | 第18-21页 |
| ·靶材的制备 | 第18-20页 |
| ·基片的选择与清洗 | 第20-21页 |
| ·薄膜的分析和测试 | 第21-27页 |
| ·薄膜的相结构分析 | 第21-22页 |
| ·薄膜的微观形貌分析 | 第22-23页 |
| ·薄膜的直流磁性能测试 | 第23-24页 |
| ·薄膜旋磁性能的测试 | 第24-27页 |
| ·本章小结 | 第27-28页 |
| 第三章 NiZn 铁氧体薄膜的微观结构和磁性能 | 第28-51页 |
| ·薄膜制备 | 第28页 |
| ·薄膜的微观结构与形貌分析 | 第28-31页 |
| ·薄膜的微观结构及成分 | 第28-30页 |
| ·薄膜的微观形貌 | 第30-31页 |
| ·制备工艺对薄膜性能的影响 | 第31-43页 |
| ·溅射功率对薄膜的影响 | 第31-36页 |
| ·溅射气压对薄膜的影响 | 第36-39页 |
| ·薄膜厚度对性能的影响 | 第39-41页 |
| ·基片温度对薄膜的影响 | 第41-43页 |
| ·后处理工艺对薄膜的影响 | 第43-50页 |
| ·常规退火处理 | 第44-48页 |
| ·快速退火处理 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第四章 其他条件对 NiZn 薄膜的影响 | 第51-57页 |
| ·基片对性能的改善 | 第51-53页 |
| ·NI_XZN_((1-X))FE_2O_4铁氧体薄膜的比较 | 第53-55页 |
| ·电阻率的测量 | 第55页 |
| ·本章小结 | 第55-57页 |
| 第五章 NiZn 铁氧体薄膜的微波磁性能 | 第57-63页 |
| ·铁磁共振线宽ΔH 测试 | 第57-61页 |
| ·谐振腔微扰理论 | 第57-59页 |
| ·谐振腔测量方法 | 第59-61页 |
| ·样品测量分析 | 第61-62页 |
| ·本章小结 | 第62-63页 |
| 第六章 结论 | 第63-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 攻读硕士期间所取得的研究成果 | 第70-71页 |