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反向原子转移自由基聚合修饰纳米SiC的研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
引言第10-11页
第1章 文献综述第11-21页
   ·纳米SiC 对材料改性的作用及存在问题第11页
   ·纳米无机粒子表面修饰技术研究进展第11-18页
     ·无机涂覆技术第11-12页
     ·有机包覆修饰第12-13页
     ·表面引发自由基接枝修饰第13页
     ·高能改性技术第13-14页
     ·新型表面引发活性接枝聚合技术第14-18页
   ·聚合物表面修饰的纳米SiC 分散稳定机理第18-19页
   ·研究的内容和目的第19-21页
     ·研究内容第19-20页
     ·研究目的第20-21页
第2章 纳米SiC 表面引入RATRP 活性基团方法的研究第21-27页
   ·试验原料、试剂及仪器第21-22页
     ·试验原料第21页
     ·试验试剂及仪器第21-22页
   ·试验原理第22-23页
     ·纳米SiC 表面引入过氧基团原理第22页
     ·纳米SiC 表面偶联KH-570 原理第22-23页
   ·纳米SiC 表面引入活性基团技术路线第23-24页
   ·试验过程第24页
   ·红外光谱测试第24-25页
   ·谱图分析第25-26页
     ·纳米SiC 表面引入过氧引发基团红外谱图分析第25页
     ·纳米SiC 颗粒表面偶联KH-570 红外谱图分析第25-26页
   ·小结第26-27页
第3章 KH-570 水解工艺研究第27-32页
   ·试验试剂和仪器第27页
   ·试验方法第27-28页
   ·测试方法第28页
   ·水解试验结果讨论第28-31页
     ·水的添加量对KH-570 水解影响分析第28-30页
     ·pH 值对KH-570 水解影响分析第30-31页
   ·小结第31-32页
第4章 纳米SiC 与KH-570 偶联工艺研究第32-42页
   ·试验试剂和仪器第32-33页
   ·试验过程第33页
   ·结构分析第33-34页
   ·性能测试第34-35页
   ·SiC 颗粒表面偶联KH-570 条件选择第35-41页
     ·偶联反应溶剂的选择第35-36页
     ·KH-570 最佳添加量的确定第36-37页
     ·偶联反应时间的确定第37-39页
     ·偶联方式对SiC-KH-570 接枝率影响分析第39-40页
     ·SiC-KH-570 粒度分析第40-41页
   ·小结第41-42页
第5章 以FeCl_3/PPh3 为催化体系用RATRP 修饰纳米SiC第42-49页
   ·试验试剂和仪器第42-43页
   ·试验过程第43页
   ·性能测试第43-45页
   ·正交试验及结果第45-46页
   ·RATRP 修饰纳米SiC 的性能及结构分析第46-48页
     ·分散稳定性分析第46-47页
     ·红外光谱IR 分析第47-48页
   ·小结第48-49页
第6章 以CuCl_2/O-phen 为催化体系用RATRP 修饰纳米SiC第49-64页
   ·试验试剂及仪器第49-50页
   ·试验过程第50页
   ·性能测试第50-52页
   ·纳米SiC 表面RATRP 条件选择第52-58页
     ·催化体系的选择第52-53页
     ·单体的选择第53页
     ·KH-570 偶联反应对RATRP 的影响第53-55页
     ·最佳RATRP 条件确定第55-58页
   ·表面结构与性能分析第58-62页
     ·IR 红外光谱表征第58-59页
     ·TG-DTA 分析第59-60页
     ·FESEM 分析第60-61页
     ·XRD 衍射结果分析第61页
     ·烧失率分析第61-62页
   ·RATRP 与常规自由基聚合(RT)表面修饰纳米SiC 比较研究第62-63页
   ·小结第63-64页
结论第64-65页
参考文献第65-70页
致谢第70-71页
导师简介第71-72页
作者简介第72-73页
学位论文数据集第73页

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