| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-10页 |
| 第一章 前言 | 第10-40页 |
| ·催化剂概况 | 第10-18页 |
| ·金属催化剂 | 第11-16页 |
| ·金属氧化物催化剂 | 第16-17页 |
| ·化合物作为催化剂(碳化钼和氮化钼) | 第17-18页 |
| ·理论背景 | 第18-28页 |
| ·量子化学原理与计算方法简介 | 第18-20页 |
| ·DFT 计算方法在VASP 中的应用 | 第20-28页 |
| ·一些表征表面催化反应的物理量以及涉及的公式 | 第28-31页 |
| ·本研究工作的目的与意义 | 第31-32页 |
| 参考文献 | 第32-40页 |
| 第二章 甲胺的C–N 键裂解涉及的物种在钼基催化剂表面吸附的DFT 研究 | 第40-59页 |
| ·引言 | 第40-41页 |
| ·计算方法及模型 | 第41页 |
| ·计算结果与讨论 | 第41-55页 |
| ·CH_3NH_2、CH_3 和NH_2 在清洁的Mo(100)及C(N, O)原子改性的Mo(100)表面(记为C(N, O)–Mo(100))的吸附 | 第41-49页 |
| ·CH_3NH_2、CH_3 和NH_2 在P–Mo(100)表面的吸附 | 第49-52页 |
| ·CH_3NH_2、CH_3 和NH_2 在Cl–Mo(100)表面的吸附 | 第52页 |
| ·在Mo_2C(100)和MoN(100)表面的吸附 | 第52-55页 |
| ·在 Pt(100)表面的吸附 | 第55页 |
| ·本章小节 | 第55-56页 |
| 参考文献 | 第56-59页 |
| 第三章 甲胺的C–N 键在钼基催化剂表面裂解的DFT 研究 | 第59-77页 |
| ·引言 | 第59-60页 |
| ·计算方法及模型 | 第60-61页 |
| ·结果与讨论 | 第61-73页 |
| ·CH_3NH_2 的C–N 键在清洁的Mo(100)表面的裂解 | 第61页 |
| ·CH_3NH_2 的C–N 键在C(N, O)原子改性的Mo(100)、Mo_2C(100)、MoN(100)和Pt(100)表面的裂解 | 第61-72页 |
| ·CH_3NH_2 的C–N 键在P–Mo(100)表面的裂解 | 第72-73页 |
| ·CH_3NH_2 的C–N 键在Cl–Mo(100)表面的裂解 | 第73页 |
| ·本章小结 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 第四章 甲胺在镍催化剂表面裂解的DFT 研究 | 第77-101页 |
| ·引言 | 第77-79页 |
| ·在NI(111)、NI(100)、台阶的NI(111)和N–NI(100)表面的可能裂解途径 | 第79-97页 |
| ·计算方法和模型 | 第79-80页 |
| ·结果与讨论 | 第80-97页 |
| ·小结 | 第97页 |
| 参考文献 | 第97-101页 |
| 第五章 甲烷在钯基催化剂表面燃烧反应的DFT 研究 | 第101-138页 |
| ·甲烷在钯催化剂上燃烧反应的研究现状 | 第101-107页 |
| ·引言 | 第101页 |
| ·甲烷在钯催化剂上的燃烧 | 第101-105页 |
| ·甲烷分子中C–H 键的裂解 | 第105-107页 |
| ·甲烷在不同的钯基催化剂表面的裂解 | 第107-132页 |
| ·计算方法和模型 | 第107页 |
| ·结果与讨论 | 第107-131页 |
| ·本章小节 | 第131-132页 |
| 参考文献 | 第132-138页 |
| 第六章 论文总结和后期工作展望 | 第138-140页 |
| 作者简介 | 第140页 |
| 攻读博士学位期间发表的学术论文情况 | 第140-141页 |
| 致谢 | 第141-142页 |
