摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
第1章 绪论 | 第11-20页 |
1.1 引言 | 第11-13页 |
1.2 过渡金属硫族化合物氧析出催化剂的研究现状 | 第13-16页 |
1.2.1 过渡金属硫化物 | 第14-15页 |
1.2.2 过渡金属硒化物 | 第15-16页 |
1.3 过渡金属硫族化合物氢析出催化剂的研究现状 | 第16-18页 |
1.3.1 过渡金属硫化物 | 第16-17页 |
1.3.2 过渡金属硒化物 | 第17-18页 |
1.4 本文研究的内容及意义 | 第18-20页 |
第2章 实验测试方法 | 第20-25页 |
2.1 实验药品及仪器 | 第20-21页 |
2.1.1 实验药品 | 第20-21页 |
2.1.2 实验仪器 | 第21页 |
2.2 样品物理表征及形貌测试 | 第21-23页 |
2.2.1 X射线衍射(XRD)仪 | 第21页 |
2.2.2 透射电子显微镜(TEM) | 第21-22页 |
2.2.3 场发射扫描电镜(FESEM) | 第22页 |
2.2.4 X射线光电子能谱(XPS) | 第22页 |
2.2.5 比表面积和孔径分布表征 | 第22页 |
2.2.6 拉曼光谱分析 | 第22-23页 |
2.2.7 原子力显微镜 | 第23页 |
2.3 电极材料的电化学性能分析 | 第23-25页 |
2.3.1 工作电极制备过程 | 第23页 |
2.3.2 线性扫描伏安(LSV)测试 | 第23-25页 |
第3章 纯相镍黄铁矿相Ni_(4.3)Co_(4.7)S_8的制备及电催化性能研究 | 第25-40页 |
3.1 引言 | 第25-26页 |
3.2 镍钴硫化物催化剂样品制备 | 第26页 |
3.2.1 Ni_(4.3)Co_(4.7)S_8和Ni_(1.4)Co_(7.6)S_8样品制备 | 第26页 |
3.2.2 六方体CoS,Ni_(0.1)Co_(0.9)S和其它金属硫化物样品的制备 | 第26页 |
3.3 物理表征分析 | 第26-34页 |
3.4 镍钴硫化物催化剂样的电化学性能分析 | 第34-38页 |
3.5 本章小结 | 第38-40页 |
第4章 超薄NiSe_2和CoSe_2纳米片的制备及电催化性能研究 | 第40-52页 |
4.1 引言 | 第40-41页 |
4.2 超薄片层结构NiSe_2和CoSe_2的制备 | 第41页 |
4.3 超薄片层结构NiSe_2和CoSe_2的物理表征分析 | 第41-48页 |
4.4 超薄片层结构NiSe_2和CoSe_2的电化学性能分析 | 第48-50页 |
4.5 本章结论 | 第50-52页 |
结论 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-62页 |
攻读硕士学位期间参与的科研项目与成果 | 第62-63页 |
致谢 | 第63页 |