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4H-SiC RSD结构优化研究及特性测试分析

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-16页
    1.1 脉冲功率技术第9-10页
    1.2 功率半导体器件第10-13页
    1.3 SiC RSD器件第13页
    1.4 SiC器件雪崩耐量研究状况第13-14页
    1.5 论文主要内容第14-16页
2 4H-SiC RSD原理及测试技术第16-28页
    2.1 4H-SiC RSD开通原理第16-18页
    2.2 4H-SiC RSD二维物理模型第18-21页
    2.3 正交设计原理第21-23页
    2.4 雪崩击穿第23-24页
    2.5 测试分析技术第24-27页
    2.6 本章小结第27-28页
3 4H-SiC RSD预充时间及结构优化第28-44页
    3.1 SiC RSD与Si RSD预充时间研究第28-30页
    3.2 SiC RSD结构单因素研究第30-34页
    3.3 正交试验设计第34-39页
    3.4 SiC RSD与Si RSD电热学重频仿真第39-43页
    3.5 本章小结第43-44页
4 4H-SiC RSD制备工艺及特性测试第44-58页
    4.1 SiC RSD制备工艺第44-46页
    4.2 SiC RSD制备测试第46-48页
    4.3 SiC RSD反向预充研究第48-52页
    4.4 SiC RSD芯片预充失效分析第52-57页
    4.5 本章小结第57-58页
5 研究结论与展望第58-60页
致谢第60-61页
参考文献第61-67页
附录 攻读硕士学位期间研究成果第67页

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