| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 引言 | 第11-14页 |
| 1.2 本论文的主要内容 | 第14-15页 |
| 1.3 本论文的基本框架 | 第15-16页 |
| 参考文献 | 第16-19页 |
| 第二章 样品制备、表征及TEM原位辐照方法 | 第19-41页 |
| 2.1 引言 | 第19页 |
| 2.2 纳米线的制备 | 第19-24页 |
| 2.2.1 实验装置 | 第19-21页 |
| 2.2.2 仪器原理 | 第21-22页 |
| 2.2.3 纳米线的制备过程 | 第22-24页 |
| 2.3 纳米线的表征 | 第24-32页 |
| 2.3.1 场发射扫描电子显微镜 | 第24-27页 |
| 2.3.2 场发射透射电子显微镜 | 第27-32页 |
| 2.4 原位辐照方法 | 第32-38页 |
| 2.4.1 TEM原位辐照方法 | 第32-34页 |
| 2.4.2 辐照实验中的重要参数 | 第34-36页 |
| 2.4.3 TEM原位辐照实验基本流程 | 第36-38页 |
| 参考文献 | 第38-41页 |
| 第三章 不同构型非晶SiO_x纳米线的稳定性及加工 | 第41-55页 |
| 3.1 引言 | 第41页 |
| 3.2 电子束辐照诱导纳米线不稳定性 | 第41-54页 |
| 3.2.1 两端固定轴向平直纳米线 | 第41-45页 |
| 3.2.2 一端固定另端自由纳米线 | 第45-49页 |
| 3.2.3 两端固定轴向弯曲纳米线 | 第49-51页 |
| 3.2.4 两端不固定轴向平直纳米线 | 第51-52页 |
| 3.2.5 实验小结 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-55页 |
| 第四章 纳米曲率效应和电子束非热激活效应 | 第55-68页 |
| 4.0 引言 | 第55页 |
| 4.1 纳米曲率效应 | 第55-57页 |
| 4.2 电子束非热激活效应 | 第57-61页 |
| 4.2.1 电子束与材料交互作用 | 第58-60页 |
| 4.2.2 电子束非热激活效应的实验证据 | 第60-61页 |
| 4.3 电子束辐照诱导纳米线不稳定性现象机理解释 | 第61-66页 |
| 4.3.1 “融蒸”和“扩散”机制 | 第61-62页 |
| 4.3.2 不同构型纳米线不稳定性现象机理解释 | 第62-66页 |
| 4.4 小结 | 第66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 第五章 总结与展望 | 第68-70页 |
| 致谢 | 第70页 |