Ir20Mn80/Co40Fe40B20双层膜交换偏置效应研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| abstract | 第5页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 交换偏置及其应用领域 | 第10-11页 |
| 1.2 交换偏置理论模型概述 | 第11-14页 |
| 1.2.1 经典模型 | 第11-13页 |
| 1.2.2 平面磁畴壁模型 | 第13页 |
| 1.2.3 随机场模型 | 第13-14页 |
| 1.2.4 其它模型 | 第14页 |
| 1.3 交换偏置国内外研究现状 | 第14-17页 |
| 1.4 本文的研究思路与创新点 | 第17-18页 |
| 2 材料制备与研究方法 | 第18-30页 |
| 2.1 材料体系的选取 | 第18页 |
| 2.2 薄膜样品的制备 | 第18-21页 |
| 2.2.1 薄膜制备方法简介 | 第18-19页 |
| 2.2.2 磁控溅射原理 | 第19-20页 |
| 2.2.3 磁控溅射工艺参数 | 第20-21页 |
| 2.3 实验方案与分析测试方法 | 第21-30页 |
| 2.3.1 磁光克尔显微镜 | 第21-23页 |
| 2.3.2 普通透射电子显微镜 | 第23页 |
| 2.3.3 洛伦兹透射电子显微镜 | 第23-26页 |
| 2.3.4 电子全息术简介 | 第26-29页 |
| 2.3.5 聚焦离子束加工方法简介 | 第29-30页 |
| 3 薄膜截面磁化过程分析 | 第30-41页 |
| 3.1 宏观磁性能测试 | 第30页 |
| 3.2 薄膜截面样品微观形貌与结构表征 | 第30-31页 |
| 3.3 数值模拟计算 | 第31-33页 |
| 3.4 原位磁化翻转过程 | 第33-35页 |
| 3.5 高分辨率电子全息表征结果 | 第35-39页 |
| 3.6 本章小结 | 第39-41页 |
| 4 薄膜面内磁化过程分析 | 第41-52页 |
| 4.1 宏观磁性能测试 | 第41-42页 |
| 4.2 薄膜面内样品微观形貌与结构表征 | 第42-44页 |
| 4.3 原位磁化翻转过程 | 第44-50页 |
| 4.4 模型化分析 | 第50-51页 |
| 4.5 本章小结 | 第51-52页 |
| 5 结论 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-57页 |
| 附录A 实验原始数据补充 | 第57-61页 |
| 在学研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
