| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第一章 绪论 | 第13-43页 |
| 1.1 引言 | 第13-14页 |
| 1.2 海水淡化技术简介 | 第14-18页 |
| 1.3 膜蒸馏技术简介 | 第18-22页 |
| 1.3.1 膜蒸馏的发展与优势 | 第18-19页 |
| 1.3.2 膜蒸馏原理以及对膜的要求 | 第19-20页 |
| 1.3.3 膜蒸馏的分类 | 第20-22页 |
| 1.4 含油废水的处理再利用 | 第22-29页 |
| 1.4.1 含油废水的来源与分类 | 第22-23页 |
| 1.4.2 含油废水的处理方法 | 第23-29页 |
| 1.5 陶瓷分离膜 | 第29-35页 |
| 1.5.1 陶瓷分离膜简介 | 第30-31页 |
| 1.5.2 多孔陶瓷膜的成型工艺 | 第31-33页 |
| 1.5.3 相转化法固化成型 | 第33页 |
| 1.5.4 陶瓷膜孔径分布表征方法 | 第33-35页 |
| 1.6 本论文的研究思路 | 第35-37页 |
| 参考文献 | 第37-43页 |
| 第二章 实验原料以及表征方法 | 第43-49页 |
| 2.1 实验所用试剂及纯度 | 第43-44页 |
| 2.2 实验所需仪器设备 | 第44-49页 |
| 2.2.1 陶瓷膜制备仪器和装置 | 第44-45页 |
| 2.2.2 陶瓷膜的性能表征仪器 | 第45-46页 |
| 2.2.3 膜分离效果表征仪器 | 第46页 |
| 2.2.4 膜蒸馏实验装置 | 第46-47页 |
| 2.2.5 油水分离实验装置 | 第47-49页 |
| 第三章 新型α氮化硅多孔陶瓷膜的制备与膜蒸馏应用 | 第49-79页 |
| 3.1 引言 | 第49页 |
| 3.2 硅粉直接氮化 | 第49-50页 |
| 3.3 非水基Si浆料的制备 | 第50-74页 |
| 3.3.1 硅粉破碎预处理 | 第50-52页 |
| 3.3.2 分散剂的选择 | 第52-53页 |
| 3.3.3 硅粉锻烧处理 | 第53-55页 |
| 3.3.4 分散剂含量的确定 | 第55-56页 |
| 3.3.5 固含量对硅浆料流变性质的影响 | 第56-57页 |
| 3.3.6 α-Si_3N_4纳米线陶瓷膜的制备 | 第57-74页 |
| 3.4 本章小结 | 第74-75页 |
| 参考文献 | 第75-79页 |
| 第四章 SRBSN陶瓷膜的制备以及在膜分离中的应用 | 第79-97页 |
| 4.1 引言 | 第79-80页 |
| 4.2 SRBSN多孔陶瓷膜的制备与表征 | 第80-85页 |
| 4.2.1 SRBSN多孔陶瓷膜的制备过程 | 第80-81页 |
| 4.2.2 SRBSN多孔陶瓷膜的表征 | 第81-85页 |
| 4.3 油水乳液的分离 | 第85-89页 |
| 4.3.1 油水乳液的制备 | 第85页 |
| 4.3.2 油水乳液的错流分离 | 第85-89页 |
| 4.4 SRBSN陶瓷膜在膜蒸馏中的应用 | 第89-91页 |
| 4.5 本章小结 | 第91-93页 |
| 参考文献 | 第93-97页 |
| 第五章 超疏水SiO_2陶瓷膜的制备以及在膜蒸馏中的应用 | 第97-117页 |
| 5.1 引言 | 第97页 |
| 5.2 超疏水理论简介 | 第97-104页 |
| 5.2.1 接触角和浸润性 | 第98-99页 |
| 5.2.2 超疏水的理论模型 | 第99-101页 |
| 5.2.3 超疏水表面的应用 | 第101-102页 |
| 5.2.4 超疏水表面的制备方法 | 第102-104页 |
| 5.3 超疏水SiO_2多孔陶瓷膜的制备 | 第104-112页 |
| 5.3.1 SiO_2多孔陶瓷膜的制备与表征 | 第104-110页 |
| 5.3.2 SiO_2多孔陶瓷膜疏水性修饰与膜蒸馏应用 | 第110-112页 |
| 5.4 本章小结 | 第112-113页 |
| 参考文献 | 第113-117页 |
| 第六章 总结与展望 | 第117-121页 |
| 6.1 全文总结 | 第117-118页 |
| 6.2 不足和展望 | 第118-121页 |
| 攻读博士期间发表的论文和其他研究成果 | 第121-123页 |
| 致谢 | 第123页 |
