| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第11-27页 |
| 1.1 氧化钒基本介绍 | 第11-12页 |
| 1.2 二氧化钒的性质、结构和应用 | 第12-16页 |
| 1.2.1 二氧化钒的光电突变性质(MIT)和结构相变 | 第12-14页 |
| 1.2.2 二氧化钒金属绝缘体转变与晶格结构转变之间的关系 | 第14-15页 |
| 1.2.3 二氧化钒的应用 | 第15-16页 |
| 1.3 二氧化钒薄膜的研究进展 | 第16-21页 |
| 1.3.1 二氧化钒薄膜的制备方法 | 第17-19页 |
| 1.3.2 二氧化钒薄膜的相变温度调控 | 第19页 |
| 1.3.3 二氧化钒外延膜的结构物性及其被外延应力的调控 | 第19-21页 |
| 1.3.4 存在的争论及关键科学问题 | 第21页 |
| 1.4 本硕士论文的研究内容及方法 | 第21-23页 |
| 参考文献 | 第23-27页 |
| 第二章 VO_2/TiO_2外延膜制备及表征 | 第27-41页 |
| 2.1 磁控溅射制备二氧化钒外延膜 | 第27-31页 |
| 2.1.1 磁控溅射原理及设备介绍 | 第27-29页 |
| 2.1.2 二氧化钒外延膜的制备 | 第29-31页 |
| 2.2 二氧化钒外延膜电学性质表征 | 第31-33页 |
| 2.2.1 电学测量设备及原理介绍 | 第31-32页 |
| 2.2.2 二氧化钒外延膜的电学测试 | 第32-33页 |
| 2.3 二氧化钒外延膜的结构表征 | 第33-40页 |
| 2.3.1 晶体学基础 | 第33-34页 |
| 2.3.2 X射线衍射基本原理 | 第34-36页 |
| 2.3.3 Ewald球 | 第36-37页 |
| 2.3.4 本课题所用到的X射线扫描方式介绍 | 第37-38页 |
| 2.3.5 VO_2/TiO_2外延膜结构表征实验 | 第38-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第三章 VO_2/TiO_2外延厚膜的微观结构及其与MIT转变的关系 | 第41-51页 |
| 3.1 VO_2/TiO_2外延厚膜中是否有伴随MIT的结构转变 | 第41-43页 |
| 3.2 VO_2/TiO_2外延厚膜中低温绝缘相的晶体结构 | 第43-47页 |
| 3.2.1 VO_2/TiO_2外延膜晶格结构理论分析 | 第43-45页 |
| 3.2.2 VO_2/TiO_2外延膜的低温类四方结构相 | 第45-47页 |
| 3.3 VO_2/TiO_2外延厚膜结构随温度的演化 | 第47-50页 |
| 参考文献 | 第50-51页 |
| 第四章 论文总结与展望 | 第51-53页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第53-54页 |
| 致谢 | 第54页 |
