| 内容提要 | 第1-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-16页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·有机电致发光器件（OLED）概述 | 第8-14页 |
| ·OLED 的发展历程 | 第8-10页 |
| ·OLED 的结构和原理 | 第10-14页 |
| ·本文选题意义和主要内容 | 第14-16页 |
| 第二章 X 射线光电子能谱的简介 | 第16-34页 |
| ·引言 | 第16-17页 |
| ·X 射线光电子能谱基本理论 | 第17-25页 |
| ·光电发射理论 | 第17-18页 |
| ·XPS 测试中重要术语 | 第18-21页 |
| ·XPS 谱图分析技术 | 第21-25页 |
| ·XPS 谱仪结构和工作原理 | 第25-33页 |
| ·XPS 谱仪的基本结构 | 第25-26页 |
| ·快速进样室 | 第26页 |
| ·超高真空系统 | 第26-27页 |
| ·X 射线激发源 | 第27-29页 |
| ·离子刻蚀源 | 第29-30页 |
| ·能量分析器 | 第30-32页 |
| ·光电检测器系统 | 第32-33页 |
| ·计算机系统 | 第33页 |
| ·本章小结 | 第33-34页 |
| 第三章 硫酸处理ITO 衬底的光电子能谱研究 | 第34-48页 |
| ·引言 | 第34-35页 |
| ·实验部分 | 第35-37页 |
| ·本论文实验所用到的材料 | 第35-36页 |
| ·实验设备 | 第36页 |
| ·利用不同浓度的硫酸处理ITO | 第36-37页 |
| ·实验结果分析 | 第37-46页 |
| ·器件制作以及特性测试 | 第37-39页 |
| ·XPS 测试结果与数据分析 | 第39-44页 |
| ·硫酸处理对ITO 成膜的影响 | 第44-45页 |
| ·硫酸处理对ITO 功函数影响的UPS 测试 | 第45-46页 |
| ·本章小结 | 第46-48页 |
| 第四章 ErF3 超薄修饰层对OLED 发光性能的影响研究 | 第48-61页 |
| ·引言 | 第48-51页 |
| ·阴极修饰层 | 第48-50页 |
| ·阳极修饰层 | 第50-51页 |
| ·研究部分 | 第51-59页 |
| ·ErF3作为阴极修饰层 | 第51-57页 |
| ·ErF3作为阳极修饰层的可行性初步研究 | 第57-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 结论 | 第61-64页 |
| 参考文献 | 第64-69页 |
| 致谢 | 第69-70页 |
| 摘要 | 第70-73页 |
| ABSTRACT | 第73-76页 |