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中国散裂中子源多功能反射谱仪屏蔽设计及ADS中子学研究

中文摘要第3-5页
Abstract第5-6页
目录第7-11页
第一章 引言第11-28页
    1.1 中国散裂中子源及多功能反射谱仪第11-23页
        1.1.1 散裂中子源简介第11-15页
        1.1.2 散裂中子源研究现状第15-16页
        1.1.3 中国散裂中子源简介第16-19页
        1.1.4 多功能反射谱仪简介第19-21页
        1.1.5 多功能反射谱仪屏蔽需求第21-22页
        1.1.6 屏蔽计算中的问题和解决方案第22-23页
    1.2 ADS工程简介第23-28页
        1.2.1 ADS简介第23-25页
        1.2.2 ADS的研究现状第25-27页
        1.2.3 ADS中子学研究的意义第27-28页
第二章 反射谱仪屏蔽模拟设计所涉及的相关基础理论和模拟程序简介第28-44页
    2.1 中子与物质的相互作用第28-32页
    2.2 光子与物质的相互作用第32-34页
    2.4 屏蔽设计中的剂量及剂量计算方法第34-38页
        2.4.1 剂量第34-36页
        2.4.2 剂量计算方法第36-38页
    2.5 我国现行的辐射防护标准第38-39页
    2.6 屏蔽材料第39-42页
        2.6.1 混凝土第40-41页
        2.6.2 钢第41-42页
    2.7 粒子输运蒙特卡洛模拟程序简介第42-44页
        2.7.1 MCNPX 2.5.0程序简介第42页
        2.7.2 FLUKA程序简介第42-44页
第三章 多功能反射谱仪模拟模型建立及减方差方法研究第44-66页
    3.1 多功能反射谱仪屏蔽模拟设计中的问题及处理方法第44页
    3.2 多功能反射谱仪屏蔽几何及材料模型第44-54页
        3.2.1 中子传输段几何及材料模型第44-49页
        3.2.2 第二中子开关(shutter-2)几何及材料模型第49-50页
        3.2.3 散射室几何及材料模型第50-54页
    3.3 材料的相关说明第54-55页
    3.4 辐射源项第55-58页
        3.4.1 耦合液氢慢化器(20K)泄漏中子源项第56页
        3.4.2 沿中子导管泄漏冷、热中子源项第56-58页
        3.4.3 入射到第二中子开关和进入散射室的冷、热中子源项第58页
    3.5 方差减小方法第58-66页
        3.5.1 方差减小方法简介第58-59页
        3.5.2 合理利用方差减小方法的意义第59-64页
        3.5.3 多功能反射谱仪屏蔽计算中的方差减小方法第64-66页
第四章 多功能反射谱仪屏蔽体模拟设计第66-86页
    4.1 屏蔽计算中考虑的工况第66-67页
    4.2 中子束流传输段屏蔽的模拟与设计结果第67-69页
    4.3 中子束流传输段屏蔽内低碳钢用量优化第69-70页
    4.4 第二中子开关关闭时的屏蔽模拟与设计结果第70-72页
    4.5 散射室屏蔽模拟与设计结果第72-79页
        4.5.1 束流垃圾桶屏蔽第72-73页
        4.5.2 散射室屏蔽墙第73-77页
        4.5.3 散射室门第77-79页
    4.6 小角散射谱仪对多功能反射谱仪屏蔽的影响第79-81页
        4.6.1 几何及材料模型建立第79-80页
        4.6.2 辐射源项与计算方法第80页
        4.6.3 模拟结果与结论第80-81页
    4.7 多功能反射谱仪屏蔽计算结果检验第81-83页
        4.7.1 几何模型第81-82页
        4.7.2 辐射源项和计算方法第82页
        4.7.3 计算结果第82-83页
        4.7.4 结论第83页
    4.8 多功能反射谱仪屏蔽设计方案第83-86页
第五章 加速器驱动次临界堆(ADS)中子学研究第86-115页
    5.1 内容简介第86页
    5.2 源质子效率第86-92页
    5.3 能量增益第92-93页
    5.4 径向峰功率因子和轴向峰功率因子第93页
    5.5 非均匀次临界堆与均匀次临界堆的模型比较研究第93-108页
        5.5.1 模型建立第93-98页
        5.5.2 模拟结果及讨论第98-108页
    5.6 中子学参数计算结果第108-112页
        5.6.1 模型建立第108-109页
        5.6.2 模拟结果与讨论第109-112页
    5.7 结论第112-115页
第六章 ADS屏蔽初步研究第115-123页
    6.1 内容简介第115页
    6.2 ADS次临界堆模型与中子学参数第115-116页
    6.3 中子源项与计算方法第116-118页
    6.4 次临界堆顶部屏蔽体模型与计算结果第118-120页
    6.5 次临界堆底部屏蔽体模型与计算结果第120-122页
    6.6 结论第122-123页
第七章 总结与展望第123-125页
    7.1 总论第123-124页
    7.2 展望第124-125页
参考文献第125-130页
在学期间的研究成果第130-131页
致谢第131页

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