锆酸盐体系钛合金MAO涂层制备及热控性能研究
| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 课题来源、研究的目的及意义 | 第11-12页 |
| 1.1.1 课题来源 | 第11页 |
| 1.1.2 课题研究的意义及目的 | 第11-12页 |
| 1.2 微弧氧化技术概述 | 第12-15页 |
| 1.2.1 微弧氧化技术特点 | 第13页 |
| 1.2.2 常见的电解液体系 | 第13-14页 |
| 1.2.3 微弧氧化技术的研发方向 | 第14-15页 |
| 1.3 微弧氧化膜层功能研究现状 | 第15-17页 |
| 1.4 微弧氧化技术制备热控涂层研究现状 | 第17-18页 |
| 1.4.1 热控涂层概述 | 第17页 |
| 1.4.2 微弧氧化技术制备热控涂层进展 | 第17-18页 |
| 1.5 微弧氧化反应机制研究的现状 | 第18-20页 |
| 1.5.1 电流-电压的特性 | 第18-19页 |
| 1.5.2 火花放电与电击穿 | 第19-20页 |
| 1.6 本课题的研究的主要内容 | 第20-22页 |
| 第2章 研究材料及性能评价 | 第22-27页 |
| 2.1 研究材料和试样前处理 | 第22-23页 |
| 2.1.1 研究材料 | 第22页 |
| 2.1.2 实验药品 | 第22页 |
| 2.1.3 试件前处理 | 第22-23页 |
| 2.2 实验装置和流程 | 第23-24页 |
| 2.2.1 实验装置 | 第23页 |
| 2.2.2 实验流程 | 第23-24页 |
| 2.3 微弧氧化陶瓷膜层的表征 | 第24-25页 |
| 2.3.1 膜层粗糙度表征 | 第24页 |
| 2.3.2 膜层厚度表征 | 第24页 |
| 2.3.3 膜层形貌表征 | 第24页 |
| 2.3.4 膜层成分的表征 | 第24-25页 |
| 2.4 微弧氧化陶瓷膜层的性能测试 | 第25-26页 |
| 2.4.1 膜层发射率测试 | 第25页 |
| 2.4.2 膜层吸收率测试 | 第25页 |
| 2.4.3 热震性能测试 | 第25-26页 |
| 2.4.4 膜层的热平衡温度 | 第26页 |
| 2.5 发射光谱分析 | 第26-27页 |
| 第3章 强酸性锆酸盐体系下膜层的制备及性能研究 | 第27-44页 |
| 3.1 氟锆酸钾浓度对膜层的影响 | 第27-30页 |
| 3.1.1 氟锆酸钾浓度对膜层厚度的影响 | 第28页 |
| 3.1.2 氟锆酸钾浓度对膜层形貌的影响 | 第28-29页 |
| 3.1.3 氟锆酸钾浓度对膜层相组成的影响 | 第29-30页 |
| 3.1.4 氟锆酸钾浓度对膜层热控性能的影响 | 第30页 |
| 3.2 微弧氧化时间对膜层的影响 | 第30-34页 |
| 3.2.1 微弧氧化时间对膜层厚度的影响 | 第30-31页 |
| 3.2.2 微弧氧化时间对膜层相貌的影响 | 第31-32页 |
| 3.2.3 微弧氧化时间对膜层元素和相组成的影响 | 第32-33页 |
| 3.2.4 微弧氧化时间对膜层热控性能的影响 | 第33-34页 |
| 3.3 电流密度对膜层的影响 | 第34-37页 |
| 3.3.1 电流密度对膜层厚度的影响 | 第34-35页 |
| 3.3.2 电流密度对膜层形貌的影响 | 第35-36页 |
| 3.3.3 电流密度对膜层相组成的影响 | 第36页 |
| 3.3.4 电流密度对膜层热控性能的影响 | 第36-37页 |
| 3.4 电源占空比对膜层的影响 | 第37-39页 |
| 3.4.1 电源占空比对膜层厚度的影响 | 第37-38页 |
| 3.4.2 电源占空比对膜层相貌的影响 | 第38页 |
| 3.4.3 电源占空比对膜层相组成的影响 | 第38-39页 |
| 3.4.4 电源占空比对膜层热控性能的影响 | 第39页 |
| 3.5 电源频率对膜层的影响 | 第39-42页 |
| 3.5.1 电源频率对膜层厚度的影响 | 第40页 |
| 3.5.2 电源频率对膜层形貌的影响 | 第40-41页 |
| 3.5.3 电源频率对膜层相组成的影响 | 第41页 |
| 3.5.4 电源频率对膜层热控性能的影响 | 第41-42页 |
| 3.6 热控膜层的热震性能 | 第42-43页 |
| 3.7 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 弱酸性锆酸盐体系下膜层的制备及性能研究 | 第44-63页 |
| 4.1 电解液浓度对陶瓷膜层的影响 | 第44-50页 |
| 4.1.1 磷酸二氢钠浓度对膜层的影响 | 第44-47页 |
| 4.1.2 氟锆酸钾浓度对膜层的影响 | 第47-50页 |
| 4.2 微弧氧化时间对膜层的影响 | 第50-52页 |
| 4.2.1 微弧氧化时间对膜层组成的影响 | 第50页 |
| 4.2.2 微弧氧化时间对膜层厚度的影响 | 第50-51页 |
| 4.2.3 微弧氧化时间对膜层形貌的影响 | 第51-52页 |
| 4.2.4 微弧氧化时间对膜层热控性能的影响 | 第52页 |
| 4.3 电源频率对膜层的影响 | 第52-55页 |
| 4.3.1 电源频率对膜层组成的影响 | 第52-53页 |
| 4.3.2 电源频率对膜层厚度的影响 | 第53-54页 |
| 4.3.3 电源频率对膜层形貌的影响 | 第54页 |
| 4.3.4 电源频率对膜层热控性能的影响 | 第54-55页 |
| 4.4 电流密度对膜层的影响 | 第55-58页 |
| 4.4.1 电流密度对膜层组成的影响 | 第55-56页 |
| 4.4.2 电流密度对厚度和粗糙度的影响 | 第56-57页 |
| 4.4.3 电流密度对膜层形貌的影响 | 第57-58页 |
| 4.4.4 电流密度对膜层热控性能的影响 | 第58页 |
| 4.5 电源占空比对膜层的影响 | 第58-61页 |
| 4.5.1 电源占空比对膜层组成的影响 | 第58-59页 |
| 4.5.2 电源占空比对膜层厚度的影响 | 第59-60页 |
| 4.5.3 电源占空比对膜层形貌的影响 | 第60页 |
| 4.5.4 电源占空比对膜层热控性能的影响 | 第60-61页 |
| 4.6 热控膜层的热震性能 | 第61-62页 |
| 4.7 本章小结 | 第62-63页 |
| 第5章 弱碱性锆酸盐体系下膜层的制备及性能研究 | 第63-84页 |
| 5.1 电解液浓度对膜层的影响 | 第63-69页 |
| 5.1.1 次亚磷酸钠浓度的影响 | 第63-66页 |
| 5.1.2 氟锆酸钾浓度对膜层的影响 | 第66-69页 |
| 5.2 电流密度对陶瓷膜层的影响 | 第69-72页 |
| 5.2.1 电流密度对陶瓷膜层厚度的影响 | 第69页 |
| 5.2.2 电流密度对陶瓷膜层形貌的影响 | 第69-70页 |
| 5.2.3 电流密度对陶瓷膜层组分的影响 | 第70-71页 |
| 5.2.4 电流密度对膜层热控性能的影响 | 第71-72页 |
| 5.3 微弧氧化时间对陶瓷膜层的影响 | 第72-75页 |
| 5.3.1 微弧氧化时间对膜层厚度的影响 | 第72页 |
| 5.3.2 微弧氧化时间对膜层形貌的影响 | 第72-73页 |
| 5.3.3 微弧氧化时间对膜层组分的影响 | 第73-74页 |
| 5.3.4 氧化时间对膜层热控性能的影响 | 第74-75页 |
| 5.4 热控涂层的热震性能 | 第75-76页 |
| 5.5 三种电解液体系的比较 | 第76-79页 |
| 5.5.1 工艺和热控性能的对比 | 第76页 |
| 5.5.2 膜层热震性能的对比 | 第76-77页 |
| 5.5.3 电解液重复实验的比较 | 第77-79页 |
| 5.6 微弧氧化光发射谱的初步研究 | 第79-83页 |
| 5.6.1 MAO 的光谱特性 | 第79-81页 |
| 5.6.2 等离子电子浓度 | 第81-82页 |
| 5.6.3 等离子体的温度 | 第82-83页 |
| 5.7 本章小结 | 第83-84页 |
| 结论 | 第84-85页 |
| 参考文献 | 第85-91页 |
| 攻读学位期间发表的学术论文 | 第91-93页 |
| 致谢 | 第93页 |
