电场力调制PVDF微纳米结构研究
| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4页 |
| 1 绪论 | 第7-13页 |
| 1.1 研究背景及意义 | 第7-8页 |
| 1.2 国内外研究进展 | 第8-12页 |
| 1.3 主要研究内容 | 第12-13页 |
| 2 PVDF结构制备理论基础 | 第13-21页 |
| 2.1 PVDF晶体结构 | 第13-15页 |
| 2.2 PVDF压电特性 | 第15-17页 |
| 2.3 微结构对压电特性影响分析 | 第17-21页 |
| 2.3.1 薄膜结构对输出电势影响 | 第17-18页 |
| 2.3.2 大深宽比阵列结构 | 第18-19页 |
| 2.3.3 锥形阵列结构 | 第19-21页 |
| 3 PVDF薄膜及预制结构制备 | 第21-29页 |
| 3.1 PVDF薄膜制备 | 第21-23页 |
| 3.1.1 PVDF薄膜制备工艺 | 第21页 |
| 3.1.2 PVDF薄膜制备影响因素 | 第21-23页 |
| 3.2 PVDF预制结构制备 | 第23-29页 |
| 3.2.1 热压印流变填充机理 | 第24-25页 |
| 3.2.2 预制结构制备 | 第25-29页 |
| 4 电场力驱动制备PVDF微阵列结构 | 第29-41页 |
| 4.1 电场力驱动制备PVDF大深宽比微阵列结构 | 第29-34页 |
| 4.1.1 工艺机理 | 第29-30页 |
| 4.1.2 工艺实验 | 第30页 |
| 4.1.3 结果分析 | 第30-34页 |
| 4.2 电场力驱动制备PVDF锥形微阵列结构 | 第34-36页 |
| 4.2.1 工艺机理 | 第34页 |
| 4.2.2 工艺实验 | 第34页 |
| 4.2.3 结果分析 | 第34-36页 |
| 4.3 PVDF微结构极化 | 第36-41页 |
| 5 结论与展望 | 第41-43页 |
| 5.1 结论 | 第41页 |
| 5.2 展望 | 第41-43页 |
| 致谢 | 第43-45页 |
| 参考文献 | 第45-47页 |
