| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| ·纳米科技与纳米陶瓷材料 | 第10页 |
| ·Ti0_2的结构及性质 | 第10-12页 |
| ·Ti0_2薄膜的制备方法 | 第12-17页 |
| ·物理气相沉积（PVD）法 | 第12-13页 |
| ·化学气相沉积（CVD）法 | 第13-14页 |
| ·液相沉积（LPD）法 | 第14-15页 |
| ·溶胶-凝胶（Sol-gel）法 | 第15-17页 |
| ·Ti0_2薄膜的研究现状 | 第17-24页 |
| ·光催化性能的研究 | 第17-19页 |
| ·亲水性能的研究 | 第19-21页 |
| ·摩擦学性能的研究 | 第21-24页 |
| ·研究的背景及意义 | 第24页 |
| ·本文研究的主要内容及目标 | 第24-26页 |
| 第2章 实验原理、方法及实验设备 | 第26-33页 |
| ·Ti0_2薄膜的制备原理 | 第26页 |
| ·制备方法 | 第26-28页 |
| ·基底的清洗及功能化处理 | 第26-27页 |
| ·薄膜的制备 | 第27-28页 |
| ·实验仪器与设备 | 第28-33页 |
| ·薄膜制备设备 | 第28-29页 |
| ·薄膜性能表征设备 | 第29-33页 |
| 第3章 金属掺杂Ti0_2薄膜的摩擦学性能研究 | 第33-52页 |
| ·引言 | 第33页 |
| ·实验与表征 | 第33-35页 |
| ·薄膜的制备 | 第33-34页 |
| ·薄膜的表征 | 第34页 |
| ·薄膜的摩擦学性能评价 | 第34-35页 |
| ·Cu-Ti0_2薄膜结果与讨论 | 第35-43页 |
| ·XPS 表征 | 第35-38页 |
| ·XRD 表征 | 第38-39页 |
| ·AFM 表征 | 第39-40页 |
| ·摩擦学性能 | 第40-43页 |
| ·Ni-Ti0_2薄膜结果与讨论 | 第43-51页 |
| ·XPS 表征 | 第43-47页 |
| ·XRD 表征 | 第47-48页 |
| ·AFM 表征 | 第48-49页 |
| ·摩擦学性能 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 第4章 FAS-Ti0_2复合薄膜的摩擦学性能研究 | 第52-61页 |
| ·前言 | 第52-53页 |
| ·实验与表征 | 第53-55页 |
| ·FAS-Ti0_2薄膜的制备 | 第53-54页 |
| ·薄膜的表征 | 第54-55页 |
| ·结果与讨论 | 第55-59页 |
| ·薄膜的XPS 表征 | 第55-58页 |
| ·薄膜的摩擦学性能表征 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-61页 |
| 第5章 紫外光照对 Ti0_2薄膜摩擦学性能的影响 | 第61-70页 |
| ·前言 | 第61页 |
| ·实验与表征 | 第61-63页 |
| ·薄膜的制备 | 第61页 |
| ·薄膜的表征 | 第61-62页 |
| ·紫外光照处理 | 第62-63页 |
| ·结果与讨论 | 第63-68页 |
| ·紫外光照前后Ti0_2薄膜的亲水性能 | 第63-64页 |
| ·紫外光照前后Ti0_2薄膜的表面形貌 | 第64页 |
| ·紫外光照前后Ti0_2薄膜的摩擦学性能 | 第64-66页 |
| ·紫外光照对Ti0_2薄膜的摩擦学性能的影响机制 | 第66-68页 |
| ·本章小结 | 第68-70页 |
| 结论 | 第70-72页 |
| 参考文献 | 第72-80页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第80-81页 |
| 致谢 | 第81页 |