| 摘要 | 第1-9页 |
| Abstract | 第9-12页 |
| 第一章 绪论 | 第12-24页 |
| ·多铁性材料概况 | 第12-15页 |
| ·铁电性 | 第12-13页 |
| ·铁磁性 | 第13-14页 |
| ·多铁性材料的应用 | 第14-15页 |
| ·单相多铁性材料BiFe0_3 | 第15-20页 |
| ·BiFe0_3 的结构与性能 | 第15-16页 |
| ·BiFe0_3 薄膜的研究进展 | 第16-20页 |
| ·本课题研究的目的及意义 | 第20-23页 |
| ·本课题的研究工作 | 第23-24页 |
| 第二章 实验方案设计与研究方法 | 第24-30页 |
| ·试验药品及常用设备 | 第24-25页 |
| ·铁电薄膜的制备 | 第25-27页 |
| ·BiFe0_3 前驱体溶液的配置 | 第25页 |
| ·Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12) 前驱体溶液的配置 | 第25页 |
| ·PbZr_(0.2)Ti_(0.79)Nb_(0.01)0_3 前驱体溶液的配置 | 第25-26页 |
| ·制备铁电薄膜的工艺流程 | 第26-27页 |
| ·薄膜的表征方法 | 第27-30页 |
| ·X 射线衍射 | 第27页 |
| ·原子力显微镜 | 第27-28页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第28页 |
| ·铁电性能测试 | 第28-29页 |
| ·铁磁性能的测试 | 第29-30页 |
| 第三章 不同厚度Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12)过渡层对BiFe0_3薄膜结构和性能的影响 | 第30-44页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·不同厚度Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12) 过渡层对BiFe0_3 薄膜取向的影响 | 第30-33页 |
| ·不同厚度Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12) 过渡层对BiFe0_3 薄膜表面形貌的影响 | 第33-36页 |
| ·SEM 图像分析 | 第36-37页 |
| ·不同厚度Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12) 过渡层对BiFe0_3 薄膜漏电流的影响 | 第37-38页 |
| ·不同厚度Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12) 过渡层对BiFe0_3 薄膜电学性能的影响 | 第38-42页 |
| ·不同厚度Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12) 过渡层对BiFe0_3 薄膜电滞回线的影响 | 第38-39页 |
| ·不同厚度Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12) 过渡层对BiFe0_3 薄膜保持性能的影响 | 第39-40页 |
| ·不同厚度Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12) 过渡层对BiFe0_3 薄膜疲劳性能的影响 | 第40-41页 |
| ·40 nm 厚的Bi_(3.5)Nd_(0.5)Ti_30_(12) 过渡层对BiFe0_3 薄膜铁磁性能的影响 | 第41-42页 |
| ·小结 | 第42-44页 |
| 第四章 Bi_(1-x)SmxFe0_3薄膜的制备与电学性能研究 | 第44-54页 |
| ·引言 | 第44-45页 |
| ·Bi_(1-x)SmxFe0_3 薄膜的晶体结构 | 第45-46页 |
| ·Bi_(1-x)SmxFe0_3 薄膜的电学性能 | 第46-51页 |
| ·Bi_(1-x)SmxFe0_3 薄膜的压电性能 | 第46-48页 |
| ·Bi_(1-x)SmxFe0_3 薄膜的漏电流 | 第48-49页 |
| ·Bi_(1-x)SmxFe0_3 薄膜的电滞回线 | 第49-51页 |
| ·Bi_(1-x)SmxFe0_3 薄膜的疲劳性能 | 第51页 |
| ·小结 | 第51-54页 |
| 第五章 Bi_(1-x)Tb_xFe0_3薄膜的制备与多铁性能研究 | 第54-64页 |
| ·引言 | 第54页 |
| ·Bi_(1-x)Tb_xFe0_3 薄膜的晶体结构 | 第54-55页 |
| ·Bi_(1-x)Tb_xFe0_3 薄膜的多铁性能 | 第55-63页 |
| ·Bi_(1-x)Tb_xFe0_3 薄膜的压电性能 | 第55-57页 |
| ·Bi_(1-x)Tb_xFe0_3 薄膜的畴结构 | 第57-58页 |
| ·Bi_(1-x)Tb_xFe0_3 薄膜的漏电流 | 第58-59页 |
| ·Bi_(1-x)Tb_xFe0_3 薄膜的电滞回线 | 第59-61页 |
| ·Bi_(1-x)Tb_xFe0_3 薄膜的疲劳性能 | 第61页 |
| ·Bi_(1-x)Tb_xFe0_3 薄膜的铁磁性能 | 第61-63页 |
| ·小结 | 第63-64页 |
| 第六章 PbZ10.2Ti0.79N60.010_3过渡层对Bi_(0.89)Tb_(0.11)Fe0_3薄膜结构及电学性能的影响. | 第64-74页 |
| ·引言 | 第64-65页 |
| ·Bi_(0.89)Tb_(0.11)Fe0_3 薄膜的晶体结构 | 第65-66页 |
| ·Bi_(0.89)Tb_(0.11)Fe0_3 薄膜的电学性能 | 第66-72页 |
| ·Bi_(0.89)Tb_(0.11)Fe0_3 薄膜的漏电流 | 第66-67页 |
| ·Bi_(0.89)Tb_(0.11)Fe0_3 薄膜的电滞回线 | 第67-68页 |
| ·Bi_(0.89)Tb_(0.11)Fe0_3 薄膜矫顽场的非对称性 | 第68-70页 |
| ·Bi_(0.89)Tb_(0.11)Fe0_3 薄膜的疲劳性能和保持性能 | 第70-71页 |
| ·Bi_(0.89)Tb_(0.11)Fe0_3 薄膜的压电性能 | 第71-72页 |
| ·小结 | 第72-74页 |
| 第七章 结论与展望 | 第74-76页 |
| ·主要结论 | 第74-75页 |
| ·主要创新点 | 第75页 |
| ·工作展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-82页 |
| 致谢 | 第82-83页 |
| 附录 | 第83-84页 |
