| 中文摘要 | 第4-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 文献综述 | 第10-28页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 半导体光催化剂 | 第11-16页 |
| 1.2.1 半导体能带理论 | 第11-12页 |
| 1.2.2 半导体材料的修饰与优化 | 第12-14页 |
| 1.2.3 氧化亚铜制备及其应用 | 第14-16页 |
| 1.3 二维纳米材料 | 第16-23页 |
| 1.3.1 二维纳米材料的性质 | 第16-18页 |
| 1.3.2 二维纳米材料的制备 | 第18-20页 |
| 1.3.3 二维纳米材料的应用 | 第20-23页 |
| 1.4 光电催化概述 | 第23-26页 |
| 1.4.1 光电催化原理 | 第23-24页 |
| 1.4.2 光电析氢催化剂 | 第24-25页 |
| 1.4.3 光电催化技术存在的问题及未来发展方向 | 第25-26页 |
| 1.5 论文的主要研究内容 | 第26-28页 |
| 第二章 Cu_2O/g-C_3N_4/WS_2的制备及其在光电催化中的应用 | 第28-56页 |
| 2.1 引言 | 第28-29页 |
| 2.2 实验 | 第29-34页 |
| 2.2.1 实验试剂及仪器 | 第29页 |
| 2.2.2 Cu_2O/g-C_3N_4/WS_2光电极的制备 | 第29-33页 |
| 2.2.3 Cu_2O/g-C_3N_4/WS_2光电极在光电催化中的应用 | 第33页 |
| 2.2.4 分析与表征 | 第33-34页 |
| 2.3 表征结果与讨论 | 第34-45页 |
| 2.3.1 SEM结果分析 | 第34-37页 |
| 2.3.2 TEM结果分析 | 第37-39页 |
| 2.3.3 XRD结果分析 | 第39-41页 |
| 2.3.4 XPS结果分析 | 第41-42页 |
| 2.3.5 RAMAN结果分析 | 第42-43页 |
| 2.3.6 UV–vis结果分析 | 第43-45页 |
| 2.4 光电极制氢性能研究 | 第45-54页 |
| 2.4.1 探讨不同实验条件对光电极的影响 | 第45-48页 |
| 2.4.2 析氢性能结果分析 | 第48-51页 |
| 2.4.3 交流阻抗测试结果分析 | 第51-52页 |
| 2.4.4 稳定性结果分析 | 第52-53页 |
| 2.4.5 光电催化机理 | 第53-54页 |
| 2.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第三章 Au/Cu_2O/TiO_2/WS_2的制备及其在光电催化中的应用 | 第56-74页 |
| 3.1 引言 | 第56-57页 |
| 3.2 实验 | 第57-60页 |
| 3.2.1 实验试剂及仪器 | 第57-58页 |
| 3.2.2 Au/Cu_2O/TiO_2/WS_2光电极的制备 | 第58-59页 |
| 3.2.3 Au/Cu_2O/TiO_2/WS_2光电极在光电催化中的应用 | 第59页 |
| 3.2.4 分析与表征 | 第59-60页 |
| 3.3 表征结果与讨论 | 第60-63页 |
| 3.3.1 SEM结果分析 | 第60-62页 |
| 3.3.2 XRD结果分析 | 第62-63页 |
| 3.3.3 UV–vis结果分析 | 第63页 |
| 3.4 光电极制氢性能研究 | 第63-72页 |
| 3.4.1 探讨不同实验条件对光电极的影响 | 第63-67页 |
| 3.4.2 析氢性能结果分析 | 第67-69页 |
| 3.4.3 交流阻抗结果分析 | 第69-70页 |
| 3.4.4 稳定性结果分析 | 第70-71页 |
| 3.4.5 光电催化机理 | 第71-72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72-74页 |
| 第四章 结论与展望 | 第74-76页 |
| 4.1 结论 | 第74-75页 |
| 4.2 展望 | 第75-76页 |
| 参考文献 | 第76-86页 |
| 发表论文和参加科研情况说明 | 第86-88页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
