| 摘要 | 第4-6页 |
| abstract | 第6-9页 |
| 符号说明 | 第18-20页 |
| 第一章 文献综述 | 第20-48页 |
| 1.1 课题的选择 | 第20-21页 |
| 1.2 多晶硅行业概述 | 第21-23页 |
| 1.3 多晶硅发展简析及展望 | 第23页 |
| 1.4 多晶硅生产工艺概述 | 第23-33页 |
| 1.4.1 冶金法(物理法) | 第24页 |
| 1.4.2 硅烷(SiH_4)热分解法 | 第24-25页 |
| 1.4.3 锌还原SiCl_4法 | 第25-27页 |
| 1.4.4 化学气相沉积(CVD)法 | 第27页 |
| 1.4.5 改良西门子法 | 第27-33页 |
| 1.5 改良西门子法中的精馏工艺及模拟方法 | 第33-43页 |
| 1.5.1 三氯氢硅(SiHCl_3)精馏工艺 | 第33-36页 |
| 1.5.2 化工过程中的精馏模拟 | 第36-37页 |
| 1.5.3 化工过程模拟软件Aspen Plus介绍 | 第37-39页 |
| 1.5.4 精馏模拟计算类型 | 第39页 |
| 1.5.5 精馏模拟计算方法 | 第39-41页 |
| 1.5.6 精馏模拟的数学模型 | 第41-43页 |
| 1.6 化工精馏过程的节能工艺 | 第43-47页 |
| 1.6.1 精馏过程中的节能原理 | 第44页 |
| 1.6.2 精馏过程中的节能技术 | 第44-47页 |
| 1.7 本课题研究的主要内容及意义 | 第47-48页 |
| 第二章 三氯氢硅精馏过程的物性方法选择 | 第48-60页 |
| 2.1 汽液相平衡与物性方法 | 第48-52页 |
| 2.1.1 活度系数法 | 第49-50页 |
| 2.1.2 状态方程(EOS)法 | 第50-52页 |
| 2.2 物性方法选择的普适规则 | 第52-53页 |
| 2.3 三氯氢硅精馏系统物性方法的选择 | 第53-59页 |
| 2.3.1 PR物性方法 | 第53-54页 |
| 2.3.2 研究物系的基本性质 | 第54页 |
| 2.3.3 汽液平衡数据的回归 | 第54-58页 |
| 2.3.4 模拟值和实测值的比较 | 第58-59页 |
| 2.4 本章小结 | 第59-60页 |
| 第三章 三氯氢硅精馏过程的建模计算与参数优化 | 第60-86页 |
| 3.1 三氯氢硅精馏过程的模拟优化 | 第60-78页 |
| 3.1.1 工艺流程与精馏任务要求 | 第60-62页 |
| 3.1.2 简捷法计算 | 第62-63页 |
| 3.1.3 预分离塔参数优化 | 第63-68页 |
| 3.1.4 三氯氢硅塔参数优化 | 第68-73页 |
| 3.1.5 四氯化硅塔参数优化 | 第73-76页 |
| 3.1.6 模拟结果汇总 | 第76-78页 |
| 3.2 三氯氢硅分离提纯过程的精馏塔改造及工业应用 | 第78-79页 |
| 3.3 传统双塔工艺和三塔新工艺的比对 | 第79-81页 |
| 3.3.1 传统双塔工艺 | 第79-80页 |
| 3.3.2 三塔新工艺 | 第80页 |
| 3.3.3 两种流程的模拟分析 | 第80-81页 |
| 3.4 三塔工艺中两种分离序列的比对 | 第81-84页 |
| 3.4.1 三塔并联工艺及模拟 | 第82-83页 |
| 3.4.2 三塔串联与并联工艺的比对 | 第83-84页 |
| 3.5 本章小结 | 第84-86页 |
| 第四章 实际运行的三氯氢硅精馏系统的模拟与节能研究 | 第86-106页 |
| 4.1 实际运行的三氯氢硅精馏系统的核算 | 第86-88页 |
| 4.1.1 三氯氢硅精馏系统各塔参数 | 第86页 |
| 4.1.2 三氯氢硅精馏系统各塔模拟结果 | 第86-87页 |
| 4.1.3 模拟结果与实际运行数据的比对 | 第87-88页 |
| 4.2 进料温度的选择 | 第88-91页 |
| 4.3 双效精馏 | 第91-98页 |
| 4.3.1 双效精馏流程 | 第91-92页 |
| 4.3.2 预分离塔操作压力的确定 | 第92-94页 |
| 4.3.3 三氯氢硅塔操作压力的确定 | 第94-96页 |
| 4.3.4 双效精馏优化前后对比 | 第96-97页 |
| 4.3.5 余热的利用 | 第97-98页 |
| 4.4 热泵精馏 | 第98-105页 |
| 4.4.1 热泵精馏工艺设计 | 第98-100页 |
| 4.4.2 热泵精馏流程模拟 | 第100-103页 |
| 4.4.3 操作费用比对 | 第103-105页 |
| 4.5 本章小结 | 第105-106页 |
| 第五章 结论 | 第106-108页 |
| 参考文献 | 第108-112页 |
| 致谢 | 第112-114页 |
| 研究成果及发表的学术论文 | 第114-116页 |
| 作者和导师简介 | 第116-117页 |
| 附件 | 第117-118页 |
