| 目录 | 第4-6页 |
| 第一章 绪论 | 第6-26页 |
| 1.1 氮化硼的结构和性质 | 第6-11页 |
| 1.1.1 六角氮化硼的结构和性质 | 第7页 |
| 1.1.2 立方氮化硼的结构和性质 | 第7-10页 |
| 1.1.3 菱形氮化硼的结构和性质 | 第10页 |
| 1.1.4 纤锌矿氮化硼的结构和性质 | 第10-11页 |
| 1.1.5 立方相和六角相的稳定性 | 第11页 |
| 1.2 立方氮化硼薄膜合成技术与进展 | 第11-15页 |
| 1.2.1 物理气相沉积((PVD) | 第12-13页 |
| 1.2.2 化学气相沉积(CVD) | 第13-15页 |
| 1.3 场发射研究进展 | 第15-24页 |
| 1.3.1 场致发射研究的意义 | 第15-18页 |
| 1.3.2 场致发射的研究概况 | 第18-24页 |
| 1.4 论文选题与研究内容 | 第24-26页 |
| 第二章 氮化硼薄膜制备与测试 | 第26-48页 |
| 2.1 射频磁控溅射制备氮化硼薄膜 | 第26-31页 |
| 2.1.1 溅射 | 第26-27页 |
| 2.1.2 射频磁控溅射 | 第27-29页 |
| 2.1.3 氮化硼薄膜制备 | 第29-31页 |
| 2.2 氮化硼薄膜的化学气相沉积 | 第31-34页 |
| 2.2.1 等离子体化学气相沉积 | 第31-33页 |
| 2.2.2 磁控弧光增强等离子体化学气相沉积 | 第33-34页 |
| 2.3 氮化硼薄膜的表征技术 | 第34-37页 |
| 2.3.1 薄膜厚度测量 | 第34-35页 |
| 2.3.2 傅立叶变换红外光谱(FTIR) | 第35-36页 |
| 2.3.3 原子力显微镜(AFM) | 第36-37页 |
| 2.4 实验结果与分析 | 第37-48页 |
| 2.4.1 射频磁控溅射实验结果与分析 | 第37-43页 |
| 2.4.2 化学气相沉积实验结果与分析 | 第43-48页 |
| 第三章 场发射理论与测试 | 第48-58页 |
| 3.1 场发射理论 | 第48-55页 |
| 3.1.1 表面势垒与电子发射 | 第48-49页 |
| 3.1.2 金属表面的场发射方程 | 第49-54页 |
| 3.1.3 Fowler-Nordheim公式的精确性 | 第54-55页 |
| 3.2 场发射测试系统 | 第55-58页 |
| 3.2.1 真空系统 | 第55-56页 |
| 3.2.2 测试电路 | 第56-57页 |
| 3.2.3 场发射测试 | 第57-58页 |
| 第四章 场发射结果与讨论 | 第58-75页 |
| 4.1 表面粗糙度对BN膜场发射的影响 | 第58-68页 |
| 4.1.1 钼衬底上氮化硼薄膜的场发射 | 第58-61页 |
| 4.1.2 镍锰钴合金衬底上氮化硼薄膜的场发射 | 第61-65页 |
| 4.1.3 n~+型硅衬底上氮化硼薄膜的场发射 | 第65-68页 |
| 4.2 立方相含量对BN膜场发射的影响 | 第68-71页 |
| 4.3 氮化硼薄膜场致发射机理 | 第71-75页 |
| 结论 | 第75-77页 |
| 参考文献 | 第77-84页 |
| 致谢 | 第84-85页 |
| 附: 中英文摘要 | 第85-93页 |