摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
0 前言 | 第11-12页 |
1 综述 | 第12-24页 |
1.1 电致变色材料概述 | 第12-17页 |
1.1.1 电致变色现象 | 第12页 |
1.1.2 电致变色材料的发展 | 第12页 |
1.1.3 电致变色材料的分类 | 第12-15页 |
1.1.4 电致变色材料的应用 | 第15-16页 |
1.1.5 目前存在的问题 | 第16-17页 |
1.2 NiO 薄膜的电致变色机理 | 第17-19页 |
1.3 NiO 薄膜的制备方法 | 第19-20页 |
1.4 电致变色薄膜结构与性能的表征方法 | 第20-21页 |
1.4.1 薄膜形貌与结构的表征 | 第20-21页 |
1.4.2 薄膜光学性能的表征 | 第21页 |
1.4.3 薄膜电化学性能的表征 | 第21页 |
1.5 金属共沉积机理 | 第21-22页 |
1.6 本论文的研究目的及意义 | 第22-24页 |
2 实验 | 第24-27页 |
2.1 实验仪器及药品 | 第24-25页 |
2.2 电化学沉积法制备 Mn 掺杂 NiO 薄膜 | 第25-26页 |
2.3 Mn 掺杂 NiO 薄膜结构与性能的表征 | 第26-27页 |
3 结果与讨论 | 第27-56页 |
3.1 Mn~(2+),Ni~(2+)在 DMF 溶液中的电化学分析 | 第27-29页 |
3.1.1 Ni~(2+)在 DMF 体系中沉积的电化学行为 | 第27页 |
3.1.2 Mn~(2+)在 DMF 溶液中的电化学分析 | 第27-28页 |
3.1.3 Mn~(2+)与 Ni~(2+)在 DMF 体系中共沉积的电化学行为 | 第28-29页 |
3.2 Mn 掺杂 NiO 薄膜的电致变色性能研究 | 第29-48页 |
3.2.1 锰初始浓度对薄膜电致变色性能的影响 | 第29-36页 |
3.2.2 沉积电位对薄膜电致变色性能的影响 | 第36-42页 |
3.2.3 沉积时间对薄膜电致变色性能的影响 | 第42-48页 |
3.3 优化工艺条件下薄膜的电致变色性能分析 | 第48-56页 |
3.3.1 优化工艺条件下薄膜形貌 | 第48-50页 |
3.3.2 薄膜结构的变化 | 第50页 |
3.3.3 薄膜能隙的变化 | 第50-52页 |
3.3.4 薄膜在空气中的记忆存储能力 | 第52-53页 |
3.3.5 薄膜的循环寿命 | 第53-56页 |
4 结论 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-63页 |
致谢 | 第63-64页 |
个人简历 | 第64页 |
发表的学术论文 | 第64-65页 |