摘要 | 第5-7页 |
Abstract | 第7-8页 |
绪论 | 第12-14页 |
第一章 硅量子点的掺杂概述 | 第14-46页 |
1.1 引言 | 第14页 |
1.2 硅量子点概述 | 第14-25页 |
1.2.1 硅量子点的性质 | 第14-18页 |
1.2.2 硅量子点的制备方法 | 第18-19页 |
1.2.3 硅量子点的应用 | 第19-25页 |
1.3 镶嵌在二氧化硅中的硅量子点的掺杂 | 第25-32页 |
1.3.1 掺杂的硅量子点的合成 | 第25页 |
1.3.2 掺杂的硅量子点的结构 | 第25-27页 |
1.3.3 掺杂的硅量子点的电学性质 | 第27-29页 |
1.3.4 掺杂的硅量子点的光学性质 | 第29-32页 |
1.4 独立存在的硅量子点的掺杂 | 第32-43页 |
1.4.1 掺杂的硅量子点的合成 | 第32-34页 |
1.4.2 掺杂的硅量子点的结构 | 第34-37页 |
1.4.3 掺杂的硅量子点的电学性质 | 第37-39页 |
1.4.4 掺杂的硅量子点的光学性质 | 第39-43页 |
1.5 本章小结 | 第43-46页 |
第二章 实验和计算方法 | 第46-58页 |
2.1 冷等离子体法制备硅量子点 | 第46-50页 |
2.1.1 冷等离子体概述 | 第46-47页 |
2.1.2 冷等离子体法制备超级掺杂的硅量子点 | 第47-50页 |
2.2 密度泛函理论 | 第50-58页 |
2.2.1 从头计算方法 | 第50-51页 |
2.2.2 密度泛函理论(DFT) | 第51-58页 |
第三章 镶嵌在二氧化硅中的硅量子点的磷掺杂 | 第58-74页 |
3.1 引言 | 第58-59页 |
3.2 模型和计算方法 | 第59-62页 |
3.3 结果与讨论 | 第62-72页 |
3.3.1 形成能 | 第62-64页 |
3.3.2 电学性质 | 第64-68页 |
3.3.3 光学性质 | 第68-72页 |
3.4 本章小结 | 第72-74页 |
第四章 镶嵌在二氧化硅中的硅量子点的硼掺杂 | 第74-86页 |
4.1 引言 | 第74-75页 |
4.2 模型和计算方法 | 第75-76页 |
4.3 结果与讨论 | 第76-85页 |
4.3.1 形成能 | 第76-78页 |
4.3.2 电学性质 | 第78-83页 |
4.3.3 光学性质 | 第83-85页 |
4.4 本章小结 | 第85-86页 |
第五章 镶嵌在二氧化硅中的硅量子点的硼-磷共掺杂 | 第86-98页 |
5.1 引言 | 第86-87页 |
5.2 模型和计算方法 | 第87-88页 |
5.3 结果与讨论 | 第88-95页 |
5.3.1 形成能 | 第88-90页 |
5.3.2 电学性质 | 第90-95页 |
5.4 本章小结 | 第95-98页 |
第六章 结构优化对磷掺杂硅量子点的性能的影响 | 第98-114页 |
6.1 引言 | 第98页 |
6.2 模型和计算方法 | 第98-100页 |
6.3 结果与讨论 | 第100-112页 |
6.3.1 结构性质 | 第100-102页 |
6.3.2 电学性质 | 第102-111页 |
6.3.3 光学性质 | 第111-112页 |
6.4 本章小结 | 第112-114页 |
第七章 尺寸效应对超级硼掺杂硅量子点的结构和光学性质的影响 | 第114-130页 |
7.1 引言 | 第114-115页 |
7.2 实验和测试方法 | 第115-116页 |
7.3 结果与讨论 | 第116-127页 |
7.3.1 结构性质 | 第116-123页 |
7.3.2 亚带隙光学吸收 | 第123-125页 |
7.3.3 局域表面等离子激元共振 | 第125-127页 |
7.4 本章小结 | 第127-130页 |
第八章 总结 | 第130-134页 |
8.1 总结 | 第130-132页 |
8.2 展望 | 第132-134页 |
参考文献 | 第134-146页 |
致谢 | 第146-148页 |
个人简历 | 第148-150页 |
攻读学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第150-151页 |