| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-23页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 高熵合金的定义 | 第9-11页 |
| 1.3 高熵合金的特点 | 第11-13页 |
| 1.4 高熵合金研究现状 | 第13-18页 |
| 1.5 高熵合金及其薄膜的应用前景 | 第18-19页 |
| 1.6 磁控溅射技术 | 第19-20页 |
| 1.6.1 磁控溅射技术原理 | 第19-20页 |
| 1.6.2 磁控溅射技术的特点 | 第20页 |
| 1.7 本文研究内容 | 第20-23页 |
| 第2章 实验方法 | 第23-29页 |
| 2.1 引言 | 第23-24页 |
| 2.2 合金元素的选择 | 第24页 |
| 2.3 高熵合金铸锭的制备 | 第24-25页 |
| 2.4 高熵合金靶材的制备 | 第25-26页 |
| 2.5 高熵合金薄膜的制备 | 第26-27页 |
| 2.6 高熵合金薄膜的组织与性能测试 | 第27-29页 |
| 第3章 FeAlCoCuCrMn高熵合金薄膜组织与性能 | 第29-43页 |
| 3.1 引言 | 第29-30页 |
| 3.2 高熵合金靶材的晶体结构 | 第30-31页 |
| 3.3 溅射时间对高熵合金薄膜组织与性能的影响 | 第31-36页 |
| 3.3.1 薄膜的晶体结构 | 第31-32页 |
| 3.3.2 薄膜的形貌 | 第32-34页 |
| 3.3.3 薄膜的力学性能 | 第34页 |
| 3.3.4 薄膜的耐腐蚀性能 | 第34-36页 |
| 3.4 溅射功率对高熵合金薄膜组织与性能的影响 | 第36-41页 |
| 3.4.1 薄膜的晶体结构 | 第36-37页 |
| 3.4.2 薄膜的形貌 | 第37-39页 |
| 3.4.3 薄膜的力学性能 | 第39页 |
| 3.4.4 薄膜的耐腐蚀性能 | 第39-41页 |
| 3.5 小结 | 第41-43页 |
| 第4章 FeAlCoCuNiV高熵合金薄膜组织与性能 | 第43-57页 |
| 4.1 引言 | 第43-44页 |
| 4.2 高熵合金靶材的晶体结构 | 第44-45页 |
| 4.3 溅射时间对高熵合金薄膜组织与性能的影响 | 第45-50页 |
| 4.3.1 薄膜的晶体结构 | 第45-46页 |
| 4.3.2 薄膜的形貌 | 第46-48页 |
| 4.3.3 薄膜的力学性能 | 第48页 |
| 4.3.4 薄膜的耐腐蚀性能 | 第48-50页 |
| 4.4 溅射功率对高熵合金薄膜组织与性能的影响 | 第50-54页 |
| 4.4.1 薄膜的晶体结构 | 第50-51页 |
| 4.4.2 薄膜的形貌 | 第51-52页 |
| 4.4.3 薄膜的力学性能 | 第52-53页 |
| 4.4.4 薄膜的耐腐蚀性能 | 第53-54页 |
| 4.5 小结 | 第54-57页 |
| 第5章 结论 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-65页 |
| 攻读硕士期间发表及待发表的论文 | 第65-66页 |
| 致谢 | 第66页 |