| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 前言 | 第11-20页 |
| 1.1 质子治疗简介 | 第11页 |
| 1.2 上海质子治疗装置 | 第11-14页 |
| 1.3 SAPT束配系统介绍 | 第14-18页 |
| 1.4 本论文研究内容及方法 | 第18-20页 |
| 第二章 点扫描照射位置控制系统指标 | 第20-49页 |
| 2.1 束配系统指标 | 第20-21页 |
| 2.2 治疗剂量误差对束流位置偏差的要求 | 第21-36页 |
| 2.3 剂量率与扫描位置控制 | 第36-48页 |
| 2.3.1 扫描速度和扫描死时间对剂量率的影响 | 第36-37页 |
| 2.3.2 扫描路径对剂量率的影响 | 第37-48页 |
| 2.4 小结 | 第48-49页 |
| 第三章 点扫描照射位置控制系统设计 | 第49-63页 |
| 3.1 系统架构设计 | 第49-51页 |
| 3.2 扫描磁铁 | 第51-52页 |
| 3.3 扫描电源 | 第52-55页 |
| 3.4 霍尔探头 | 第55-57页 |
| 3.5 位置电离室 | 第57-60页 |
| 3.6 Lynx荧光靶 | 第60-61页 |
| 3.7 小结 | 第61-63页 |
| 第四章 点扫描照射位置控制算法设计 | 第63-88页 |
| 4.1 照射位置控制算法设计 | 第63-66页 |
| 4.2 束流位置映射算法 | 第66-72页 |
| 4.2.1 曲面拟合算法综述 | 第67-69页 |
| 4.2.2“扫描磁铁磁场强度–等中心处束流位置”的映射关系 | 第69-70页 |
| 4.2.3“等中心处的束流位置-位置电离室测得的束流位置”的映射关系 | 第70-72页 |
| 4.3 基于反馈的扫描磁铁励磁电流控制方法 | 第72-75页 |
| 4.4 基于前馈的扫描磁铁励磁电流控制方法 | 第75-84页 |
| 4.5 照射位置校正算法 | 第84-85页 |
| 4.6 小结 | 第85-88页 |
| 第五章 带束测试结果 | 第88-98页 |
| 5.1 带束测试平台的搭建 | 第88-89页 |
| 5.2 Lynx测量精度的验证 | 第89-90页 |
| 5.3 目标磁场到扫描位置的标定 | 第90-94页 |
| 5.4 目标磁场到位置电离室读出的标定 | 第94-95页 |
| 5.5 照射位置控制精度测试 | 第95-98页 |
| 第六章 总结与展望 | 第98-100页 |
| 参考文献 | 第100-112页 |
| 作者学术成果 | 第112-113页 |
| 致谢 | 第113页 |