摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 前言 | 第11-38页 |
1.1 2,2′:6′,2"-三联吡啶配体 | 第11-18页 |
1.1.1 2,2′:6′,2"-三联吡啶配体的合成 | 第11-13页 |
1.1.2 2,2′:6′,2"-三联吡啶配合物的应用 | 第13-18页 |
1.2 自组装膜的研究进展 | 第18-25页 |
1.2.1 自组装膜的简介 | 第18-19页 |
1.2.2 自组装膜的制备方法 | 第19-22页 |
1.2.3 自组装膜的应用 | 第22-25页 |
1.3 异相钯催化Suzuki偶联反应研究进展 | 第25-32页 |
1.3.1 Suzuki偶联的概述 | 第25-26页 |
1.3.2 异相钯催化Suzuki偶联反应 | 第26-31页 |
1.3.3 异相钯催化Suzuki偶联反应机理 | 第31-32页 |
1.4 催化合成苯并咪唑类化合物的研究进展 | 第32-36页 |
1.4.1 苯并咪唑类化合物的应用 | 第32-33页 |
1.4.2 苯并咪唑类化合物的合成 | 第33-36页 |
1.5 课题提出 | 第36-38页 |
第二章 三联吡啶钯、铁配合物自组装膜的制备与表征 | 第38-53页 |
2.1 引言 | 第38-39页 |
2.2 4'-(4-羧基苯基)-2,2':6',2"-三联吡啶的制备 | 第39页 |
2.3 三联吡啶钯、铁配合物自组装膜的制备 | 第39-41页 |
2.3.1 三联吡啶钯、铁配合物自组装膜的制备路线 | 第39-40页 |
2.3.2 三联吡啶钯、铁配合物自组装膜的制备 | 第40-41页 |
2.4 三联吡啶钯、铁配合物自组装膜的表征 | 第41-51页 |
2.4.1 水接触角(WCA)对三联吡啶钯、铁自配合物组装膜制备过程的表征 | 第41-43页 |
2.4.2 原子力显微镜(AFM)对三联吡啶钯、铁配合物自组装膜制备过程的表征 | 第43-45页 |
2.4.3 紫外-可见(UV-vis)吸收光谱对三联吡啶钯、铁配合物自组装膜制备过程的表征 | 第45-46页 |
2.4.4 X射线光电子能谱(XPS)对三联吡啶钯、铁配合物自组装膜制备过程的表征 | 第46-49页 |
2.4.5 循环伏安法对三联吡啶铁配合物自组装膜的表征 | 第49-50页 |
2.4.6 电感耦合等离子体-原子发射光谱(ICP-AES)对三联吡啶钯、铁配合物自组装膜的表征 | 第50-51页 |
2.5 实验部分 | 第51-52页 |
2.5.1 实验仪器 | 第51页 |
2.5.2 溶剂及药品的处理 | 第51-52页 |
2.6 小结 | 第52-53页 |
第三章 三联吡啶钯配合物自组装膜在Suzuki偶联反应中的应用 | 第53-64页 |
3.1 Suzuki偶联反应的概述 | 第53-54页 |
3.2 反应条件的优化 | 第54-56页 |
3.3 异相钯催化剂与均相钯催化剂对Suzuki偶联反应催化活性的比较 | 第56-57页 |
3.4 三联吡啶钯配合物自组装膜循环性能的研究 | 第57页 |
3.5 三联吡啶钯配合物自组装膜催化Suzuki偶联反应机理 | 第57-62页 |
3.5.1 水接触角对催化过程的表征 | 第58-59页 |
3.5.2 X射线光电子能谱对催化过程的表征 | 第59-61页 |
3.5.3 热过滤实验 | 第61-62页 |
3.6 实验部分 | 第62-63页 |
3.6.1 实验仪器(见 2.5.1) | 第62页 |
3.6.2 试剂 | 第62-63页 |
3.6.3 Suzuki偶联反应的一般步骤 | 第63页 |
3.7 小结 | 第63-64页 |
第四章 三联吡啶铁配合物自组装膜催化合成苯并咪唑类化合物 | 第64-79页 |
4.1 合成苯并咪唑类化合物概述 | 第64-65页 |
4.2 反应条件的优化 | 第65-66页 |
4.3 异相催化剂自组装膜Si-Fe与均相催剂催化性能的对比 | 第66-67页 |
4.4 三联吡啶铁配合物自组装膜循环性能的研究 | 第67-68页 |
4.5 反应底物的拓展 | 第68-70页 |
4.6 三联吡啶铁配合物自组装膜催化合成苯并咪唑类化合物反应机理的初步探究 | 第70-75页 |
4.7 实验部分 | 第75-77页 |
4.7.1 实验仪器(见 2.5.1) | 第75页 |
4.7.2 试剂与药品的处理 | 第75页 |
4.7.3 三联吡啶铁配合物自组装膜催化合成苯并咪唑类化合物的一般步骤 | 第75页 |
4.7.4 产物的表征 | 第75-77页 |
4.8 小结 | 第77-79页 |
第五章 总结与展望 | 第79-81页 |
5.1 总结 | 第79页 |
5.2 展望 | 第79-81页 |
参考文献 | 第81-89页 |
附图 | 第89-100页 |
致谢 | 第100页 |