硬X射线光栅微分相衬成像系统中光栅的研制
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 研究背景 | 第10-11页 |
| 1.2 X射线相衬成像方法的介绍 | 第11-15页 |
| 1.2.1 干涉仪相衬成像 | 第11-12页 |
| 1.2.2 衍射增强相衬成像 | 第12-13页 |
| 1.2.3 类同轴相衬成像 | 第13页 |
| 1.2.4 光栅微分相衬成像 | 第13-15页 |
| 1.3 系统参数 | 第15-16页 |
| 1.3.1 国内外研究概况 | 第15-16页 |
| 1.3.2 光栅参数 | 第16页 |
| 1.4 论文结构安排 | 第16-18页 |
| 第二章 光栅参数 | 第18-28页 |
| 2.1 光栅系统的选择 | 第18-19页 |
| 2.2 相位光栅参数 | 第19-22页 |
| 2.2.1 相位光栅的周期 | 第19-20页 |
| 2.2.2 相位光栅的槽深 | 第20-21页 |
| 2.2.3 相位光栅的尺寸 | 第21-22页 |
| 2.3 分析光栅参数 | 第22-24页 |
| 2.3.1 分析光栅的周期 | 第22页 |
| 2.3.2 分析光栅的槽深 | 第22-24页 |
| 2.3.3 分析光栅的尺寸 | 第24页 |
| 2.4 误差影响 | 第24-26页 |
| 2.4.1 相位光栅 | 第24-25页 |
| 2.4.2 分析光栅 | 第25-26页 |
| 2.5 本章小结 | 第26-28页 |
| 第三章 制作工艺 | 第28-56页 |
| 3.1 单晶硅腐蚀 | 第28-34页 |
| 3.1.1 腐蚀速率 | 第29页 |
| 3.1.2 横向钻蚀 | 第29-30页 |
| 3.1.3 条件选择 | 第30-32页 |
| 3.1.4 硅片的刻蚀与腐蚀实验 | 第32-34页 |
| 3.2 扇形对准条纹制作 | 第34-36页 |
| 3.2.1 扇形条纹的工作原理 | 第34-35页 |
| 3.2.2 工艺结果 | 第35-36页 |
| 3.3 相位光栅的制作 | 第36-42页 |
| 3.3.1 掩模的制备 | 第36-40页 |
| 3.3.2 湿法腐蚀的优化 | 第40-41页 |
| 3.3.3 实验结果与讨论 | 第41-42页 |
| 3.4 分析光栅的制作 | 第42-54页 |
| 3.4.1 镀金工艺的选择 | 第43-45页 |
| 3.4.2 工艺流程 | 第45-52页 |
| 3.4.3 替代工艺 | 第52-53页 |
| 3.4.4 实验结果与讨论 | 第53-54页 |
| 3.5 本章小结 | 第54-56页 |
| 第四章 总结与展望 | 第56-58页 |
| 4.1 论文的工作总结 | 第56页 |
| 4.2 实验的主要创新点 | 第56-57页 |
| 4.3 实验展望 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-62页 |
| 在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第62-64页 |
| 致谢 | 第64页 |
