| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 第1章 绪论 | 第8-16页 |
| 1.1 前言 | 第8页 |
| 1.2 化学镀沉积机理 | 第8-9页 |
| 1.3 复合化学镀沉积机理 | 第9-10页 |
| 1.4 耐磨性复合镀层的分类 | 第10-12页 |
| 1.4.1 自润滑减磨镀层 | 第10-11页 |
| 1.4.2 含有硬质颗粒的复合镀层 | 第11页 |
| 1.4.3 三元及多元合金镀层 | 第11-12页 |
| 1.5 复合镀层的镀后处理 | 第12-14页 |
| 1.5.1 激光熔覆 | 第12-14页 |
| 1.5.2 采用激光熔覆制备镀层的主要难点以及发展趋势 | 第14页 |
| 1.6 本课题研究的问题及意义 | 第14-16页 |
| 第2章 实验方法 | 第16-26页 |
| 2.1 实验方法及条件 | 第16-26页 |
| 2.1.1 基体材料的前处理 | 第16-17页 |
| 2.1.2 WC粉末与预处理 | 第17-18页 |
| 2.1.3 复合镀工艺 | 第18-19页 |
| 2.1.4 镀液的配置 | 第19-21页 |
| 2.1.5 主要实验设备及测试方法 | 第21-24页 |
| 2.1.6 镀后热处理 | 第24-26页 |
| 第3章 复合镀实验结果及分析 | 第26-44页 |
| 3.1 施镀配方的选择 | 第26-28页 |
| 3.1.1 直接复合镀工艺下下镀层的表面形貌 | 第26-27页 |
| 3.1.2 温度对沉积速度的影响 | 第27-28页 |
| 3.2 表面活性剂的选择 | 第28-31页 |
| 3.2.1 表面活性剂对镀层表面质量的影响 | 第29-30页 |
| 3.2.2 表面活性剂对镀层硬度的影响 | 第30-31页 |
| 3.3 工艺参数对沉积速度的影响 | 第31-32页 |
| 3.3.1 施镀时间对沉积速度的影响 | 第31-32页 |
| 3.4 WC加入量对镀层的影响 | 第32-37页 |
| 3.4.1 WC加入量对镀层形貌的影响 | 第32-35页 |
| 3.4.2 WC含量对沉积速度的影响 | 第35-36页 |
| 3.4.3 WC含量对镀层硬度的影响 | 第36-37页 |
| 3.5 镀层的相组成及成分分析 | 第37-39页 |
| 3.6 晶粒度大小分析 | 第39-41页 |
| 3.7 镀层的孔隙率 | 第41-42页 |
| 3.8 镀层结合力测试 | 第42-43页 |
| 3.9 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 复合镀层的镀后处理及结果分析 | 第44-62页 |
| 4.1 镀后热处理及结果分析 | 第44-48页 |
| 4.1.1 镀层硬度分析 | 第44-46页 |
| 4.1.2 复合镀层摩擦磨损性能 | 第46-48页 |
| 4.2 激光熔覆实验及结果分析 | 第48-60页 |
| 4.2.1 激光处理工艺及设备 | 第48-50页 |
| 4.2.2 激光处理结果分析 | 第50-54页 |
| 4.2.3 XRD分析结果 | 第54-55页 |
| 4.2.4 显微硬度测试 | 第55-56页 |
| 4.2.5 摩擦磨损性能 | 第56-58页 |
| 4.2.6 耐腐蚀性能 | 第58-60页 |
| 4.3 本章小结 | 第60-62页 |
| 第5章 Ni-P-WC复合镀层的生长机制探讨 | 第62-66页 |
| 结论 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-72页 |
| 攻读硕士学位期间所发表的论文 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74-75页 |
| 个人简历 | 第75页 |